公开(公告)号：CN102127749A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN201010022879.1

申请日：2010-01-15

Applicant: 复旦大学

Inventor： 陈国荣 ,  莫晓亮 ,  刘晓萌

IPC: C23C16/18

Abstract: 本发明公开了一种MOCVD反应设备中的反应器，由气体导入口、反应腔和气体排出口三部分组合而成，包含一层流式MOCVD反应腔，其特征在于，该反应器包括两个基底托盘装置，相对平行设置于该反应腔的气流两侧。该MOCVD反应腔其一端设有气体导入口，另一端设有气体排出口，反应气体从该气体导入口进入该MOCVD反应腔流动到另一端从该气体排出口排出。本发明在相同的加工情况下，将气体的利用率提高了一倍，同时也将生产效率提高了一倍。不仅可用于气流横向流动的横式反应腔，也可以用于气流由边缘向中心流动及中心向边缘流动的反应腔类型。

公开(公告)号：CN102121098A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN201010022645.7

申请日：2010-01-08

Applicant: 复旦大学

Inventor： 陈国荣 ,  莫晓亮 ,  刘晓萌 ,  龚大卫

IPC: C23C16/46 ,  C23C16/458

Abstract: 本发明涉及一种外加热方式的金属有机化学气相沉积系统反应腔，其为双层结构，外层是石英保护腔外筒，内层是石英反应腔内筒，摆放基片的衬底托盘安装在反应腔内筒腔内，双重保护确保基片反应时不受外界环境影响，保证高纯和化学、物理稳定的要求；本发明反应腔的衬底托盘由旋转轴支撑，并通过旋转轴与衬底托盘旋转机构联接，工作时衬底托盘可主动旋转，有效提高了薄膜组分和厚度的均匀性。本发明采用在反应腔外设置加热体的方法，大大简化了反应腔和加热体的结构，降低了设备成本；同时外置的加热体避免了加热组件对反应腔的污染；加热器相对反应腔中的衬底能够作相对位置移动，在反应过程中或结束时能够简单快速地改变基板温度。

公开(公告)号：CN201634760U

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN201020033133.6

申请日：2010-01-15

Applicant: 复旦大学

Inventor： 陈国荣 ,  莫晓亮 ,  刘晓萌

IPC: C23C16/18 ,  C23C16/54

Abstract: 本实用新型属于MOCVD反应设备技术领域，具体涉及MOCVD反应器。该MOCVD反应器包含反应腔，该反应腔设中放置基板的衬底托盘可通过机械传动旋转，并且薄膜生长过程中，加热器与衬底间采用真空密封，从而完全隔绝，反应气体不可能与加热组件直接接触，从而简化了设计。同时采用基片更换机构，能够反应时完成后，运动到基片更换位置，使操作人员不用打开反应腔就能方便地交换基片。