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公开(公告)号：CN106863136A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201710026894.5
申请日：2017-01-15
Applicant: 复旦大学
CPC classification number: G06F17/5086 , B24B51/00 , G06Q10/047
Abstract: 本发明属于光学加工技术领域，具体为一种CCOS抛光工艺全频段收敛路径规划方法。该方法的步骤如下：首先根据去除函数和检测得到的面形误差计算加工速度分布矩阵，再根据速度分布矩阵确定路径算法中的初始迭代路径，进而通过路径算法不断地对初始路径进行扩充，通过反复迭代得到加工抛光路径，最终依据得到的抛光路径和驻留时间矩阵生成控制程序，对待加工工件进行CCOS抛光。本发明优点在于能够使机床在沿抛光路径运动时最大程度地保持速率稳定，从而使加工低中频得以更好收敛，另外每次加工时的路径选择均不相同，这有利于面形中频收敛，二者综合使得加工质量得以提高。
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公开(公告)号：CN108555729B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201711382152.2
申请日：2017-12-20
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明属于光学零件加工技术领域，具体为一种光学镜片小磨头光学加工中的边缘误差控制方法。具体步骤为：首先测量工件得到面形误差，对表面去除量加上合适的二次项进行调整，减小边缘加工难度；同时将抛光路径抽象为离散的采样点，根据去除函数模型计算每个采样点上的去除函数；然后利用空间变化反卷积算法求解驻留时间，最后依据抛光路径和驻留时间生成控制程序，对工件进行抛光。求解驻留时间时采用随位置而变化的去除函数，可精确控制对边缘部分的去除量；非线性的反卷积算法可以适应移变的去除函数；面形调整技术最大程度地减小了边缘误差的收敛难度。本发明对抛光系统的控制精度要求较低，因此可降低小磨头抛光成本，提高加工效率。
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公开(公告)号：CN106863136B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201710026894.5
申请日：2017-01-15
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明属于光学加工技术领域，具体为一种CCOS抛光工艺全频段收敛路径规划方法。该方法的步骤如下：首先根据去除函数和检测得到的面形误差计算加工速度分布矩阵，再根据速度分布矩阵确定路径算法中的初始迭代路径，进而通过路径算法不断地对初始路径进行扩充，通过反复迭代得到加工抛光路径，最终依据得到的抛光路径和驻留时间矩阵生成控制程序，对待加工工件进行CCOS抛光。本发明优点在于能够使机床在沿抛光路径运动时最大程度地保持速率稳定，从而使加工低中频得以更好收敛，另外每次加工时的路径选择均不相同，这有利于面形中频收敛，二者综合使得加工质量得以提高。
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公开(公告)号：CN108555729A
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201711382152.2
申请日：2017-12-20
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明属于光学零件加工技术领域，具体为一种光学镜片小磨头光学加工中的边缘误差控制方法。具体步骤为：首先测量工件得到面形误差，对表面去除量加上合适的二次项进行调整，减小边缘加工难度；同时将抛光路径抽象为离散的采样点，根据去除函数模型计算每个采样点上的去除函数；然后利用空间变化反卷积算法求解驻留时间，最后依据抛光路径和驻留时间生成控制程序，对工件进行抛光。求解驻留时间时采用随位置而变化的去除函数，可精确控制对边缘部分的去除量；非线性的反卷积算法可以适应移变的去除函数；面形调整技术最大程度地减小了边缘误差的收敛难度。本发明对抛光系统的控制精度要求较低，因此可降低小磨头抛光成本，提高加工效率。
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