基板处理装置、载置台以及温度控制方法

    公开(公告)号:CN113594016A

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202110441064.5

    申请日:2021-04-23

    Inventor: 齐藤秀翔

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、载置台以及温度控制方法,能够控制载置台的变形。基板处理装置具有用于载置基板的载置台,所述载置台具有:第一板;第一温度调节机构,其控制所述第一板的温度;第二板,其配置于所述第一板的下部;第二温度调节机构,其控制所述第二板的温度;以及紧固构件,其将所述第一板与所述第二板紧固在一起。

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