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公开(公告)号:CN112585302B
公开(公告)日:2025-03-18
申请号:CN201980052408.4
申请日:2019-08-08
Applicant: 地方独立行政法人山口县产业技术研究院 , 三和产业株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: C25D11/26 , H01L21/3065 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种具有得到提高的耐电压性的阳极氧化钛材。阳极氧化钛材具备:钛母材以及设于钛母材的表面的阳极氧化钛层,阳极氧化钛层包含多孔质的第一阳极氧化钛层,所述阳极氧化钛材的25℃下的耐电压为500V以上,维氏硬度为200以上,膜厚为20μm以上且小于80μm,表面的算术平均粗糙度Ra小于1.6μm,表面的最大高度粗糙度Rz小于6.3μm,在第一阳极氧化钛层的与厚度方向垂直的剖面和表面中的任一者中,均未观察到具有能包含直径0.5μm以上的圆的形状的细孔剖面。
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公开(公告)号:CN112585302A
公开(公告)日:2021-03-30
申请号:CN201980052408.4
申请日:2019-08-08
Applicant: 地方独立行政法人山口县产业技术研究院 , 下关镀金株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: C25D11/26 , H01L21/3065 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种具有得到提高的耐电压性的阳极氧化钛材。阳极氧化钛材具备:钛母材以及设于钛母材的表面的阳极氧化钛层,阳极氧化钛层包含多孔质的第一阳极氧化钛层,所述阳极氧化钛材的25℃下的耐电压为500V以上,维氏硬度为200以上,膜厚为20μm以上且小于80μm,表面的算术平均粗糙度Ra小于1.6μm,表面的最大高度粗糙度Rz小于6.3μm,在第一阳极氧化钛层的与厚度方向垂直的剖面和表面中的任一者中,均未观察到具有能包含直径0.5μm以上的圆的形状的细孔剖面。
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公开(公告)号:CN115513111A
公开(公告)日:2022-12-23
申请号:CN202210680655.2
申请日:2022-06-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基片支承部和基片处理装置,能够提高基片支承部的温度控制效率。基片支承部包括:静电吸盘,其由陶瓷形成,通过静电吸附来保持被处理基片;支承所述静电吸盘的基座;和供热交换介质流动的流路,其中,所述流路的上表面由陶瓷形成。
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公开(公告)号:CN113594016A
公开(公告)日:2021-11-02
申请号:CN202110441064.5
申请日:2021-04-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 齐藤秀翔
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、载置台以及温度控制方法,能够控制载置台的变形。基板处理装置具有用于载置基板的载置台,所述载置台具有:第一板;第一温度调节机构,其控制所述第一板的温度;第二板,其配置于所述第一板的下部;第二温度调节机构,其控制所述第二板的温度;以及紧固构件,其将所述第一板与所述第二板紧固在一起。
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