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公开(公告)号:CN115427985A
公开(公告)日:2022-12-02
申请号:CN202180030428.9
申请日:2021-02-23
IPC: G06N20/00
Abstract: 一种用于测量二维结构元件的阵列的局部临界尺寸均匀性的方法、系统和非暂时性计算机可读介质,方法可以包括:获得所获取的阵列的光学光谱分析光谱;将所获取的阵列的光学光谱分析光谱馈送至经训练的机器学习过程,其中,经训练的机器学习过程被训练以将光学光谱分析光谱映射至平均临界尺寸(CD)和局部临界尺寸均匀性(LCDU);以及通过经训练的机器学习过程输出阵列的平均CD和LCDU。