公开(公告)号：CN108103430B

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：CN201711193063.3

申请日：2017-11-24

申请人： 四川富乐德科技发展有限公司

发明人： 惠朝先 ,  贺贤汉 ,  邱俊

IPC分类号： C23C4/131 ,  C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/08

摘要： 本发明提供一种电弧工艺铝熔射层表面尖端毛刺的控制方法，在气动打磨设备上安装百洁布打磨片，对熔射层区域进行打磨，控制打磨压力在3～5Kg/CM2，均匀打磨部件表面；可以有效去除部件表面的尖端晶粒，调控ARC熔射粗糙度最低能够达到16.781μm。

公开(公告)号：CN108070815B

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201711160205.6

申请日：2017-11-20

申请人： 四川富乐德科技发展有限公司

发明人： 惠朝先 ,  贺贤汉

IPC分类号： C23C4/131 ,  C23C4/129 ,  C23C4/08 ,  C23C4/18 ,  C23C4/02

摘要： 本发明提供一种应用于电子产业腔体设备的铝熔射层的制备工艺，结合ARC熔射和flame熔射的工艺优缺点，配合喷砂工艺控制部件表面粗糙度均匀性，以及熔射层之间的结合力强度，达到电子产业腔体设备对结合力、particle方面的生产技术要求。

公开(公告)号：CN108103430A

公开(公告)日：2018-06-01

申请号：CN201711193063.3

申请日：2017-11-24

申请人： 四川富乐德科技发展有限公司

发明人： 惠朝先 ,  贺贤汉 ,  邱俊

IPC分类号： C23C4/131 ,  C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/08

摘要： 本发明提供一种电弧工艺铝熔射层表面尖端毛刺的控制方法，在气动打磨设备上安装百洁布打磨片，对熔射层区域进行打磨，控制打磨压力在3～5Kg/CM2，均匀打磨部件表面；可以有效去除部件表面的尖端晶粒，调控ARC熔射粗糙度最低能够达到16.781μm。

公开(公告)号：CN108070815A

公开(公告)日：2018-05-25

申请号：CN201711160205.6

申请日：2017-11-20

申请人： 四川富乐德科技发展有限公司

发明人： 惠朝先 ,  贺贤汉

IPC分类号： C23C4/131 ,  C23C4/129 ,  C23C4/08 ,  C23C4/18 ,  C23C4/02

CPC分类号： C23C4/131 ,  C23C4/02 ,  C23C4/08 ,  C23C4/129 ,  C23C4/18

摘要： 本发明提供一种应用于电子产业腔体设备的铝熔射层的制备工艺，结合ARC熔射和flame熔射的工艺优缺点，配合喷砂工艺控制部件表面粗糙度均匀性，以及熔射层之间的结合力强度，达到电子产业腔体设备对结合力、particle方面的生产技术要求。