衍射抑制光学部件、衍射抑制显示屏和屏下摄像装置

    公开(公告)号:CN111208648B

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN202010035985.7

    申请日:2020-01-14

    IPC分类号: G02B27/42

    摘要: 本申请公开了一种衍射抑制光学部件,其形成为片状件,该片状件包括呈二维周期性布置的第一区域和围绕着第一区域布置的大致呈条带形状的第二区域,所述第一区域为透光区域,其中,所述第二区域具有由沿着所述条带形状的延伸方向排列的多个单元图形在垂直于所述延伸方向的横向方向上发生随机错位而产生的形状,并且所述第二区域至少在其两个侧缘部分上是不透光的。本申请还公开了具有上述衍射抑制光学部件或具有相应结构的衍射抑制显示屏和屏下摄像装置。根据本发明,可抑制屏下摄像装置中由于像素单元的周期性结构而产生的衍射,改善成像质量。

    衍射抑制光学部件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113156655A

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN202110418295.4

    申请日:2020-01-14

    IPC分类号: G02B27/42

    摘要: 本申请公开了一种衍射抑制光学部件,其形成为片状件,该片状件包括呈二维周期性布置的第一区域和第二区域,所述第一区域为透光区域,其中,所述第二区域具有由沿着其边缘的延伸方向排列的多个单元图形在垂直于所述延伸方向的横向方向上发生随机错位而产生的形状,并且所述第二区域是不透光的。根据本发明,可抑制屏下摄像装置中由于像素单元的周期性结构而产生的衍射,改善成像质量。

    衍射抑制光学部件、衍射抑制显示屏和屏下摄像装置

    公开(公告)号:CN111208648A

    公开(公告)日:2020-05-29

    申请号:CN202010035985.7

    申请日:2020-01-14

    IPC分类号: G02B27/42

    摘要: 本申请公开了一种衍射抑制光学部件,其形成为片状件,该片状件包括呈二维周期性布置的第一区域和围绕着第一区域布置的大致呈条带形状的第二区域,所述第一区域为透光区域,其中,所述第二区域具有由沿着所述条带形状的延伸方向排列的多个单元图形在垂直于所述延伸方向的横向方向上发生随机错位而产生的形状,并且所述第二区域至少在其两个侧缘部分上是不透光的。本申请还公开了具有上述衍射抑制光学部件或具有相应结构的衍射抑制显示屏和屏下摄像装置。根据本发明,可抑制屏下摄像装置中由于像素单元的周期性结构而产生的衍射,改善成像质量。

    一种用于屏下摄像的电子装置

    公开(公告)号:CN113156655B

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202110418295.4

    申请日:2020-01-14

    IPC分类号: G02B27/42

    摘要: 本申请公开了一种用于屏下摄像的电子装置,包括显示屏和衍射抑制光学部件,显示屏允许光从其中透过并包括像素层,像素层包括围绕像素单元周期性布置的遮光带;衍射抑制光学部件形成为片状件,该片状件包括呈二维周期性布置的第一区域和围绕着第一区域布置的大致呈条带形状的第二区域,第一区域为透光区域,其中,第二区域具有由沿着条带形状的延伸方向排列的多个单元图形在垂直于延伸方向的横向方向上发生随机错位而产生的形状,并且第二区域是不透光的,其中衍射抑制光学部件设置成覆盖在像素层的至少部分区域上,使得第二区域与显示屏的遮光带相互对应。根据本发明,可抑制屏下摄像装置中由于像素单元的周期性结构而产生的衍射,改善成像质量。

    衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质

    公开(公告)号:CN117666118A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202211023738.0

    申请日:2022-08-23

    IPC分类号: G02B27/00 G02B27/42

    摘要: 本申请公开一种衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质,该设计方法包括:获取当前循环过程的当前待处理相位分布图;对当前待处理相位分布图进行扰动,以获得扰动相位分布图;对扰动相位分布图进行高斯模糊,获得高斯模糊后的相位分布图;对高斯模糊后的相位分布图进行仿真,判断仿真结果是否满足预设要求;循环执行上述步骤至少一次,直到仿真结果满足预设要求,获得用于加工衍射光学元件的目标相位分布图,其中,目标相位分布图为仿真结果满足预设要求的高斯模糊后的相位分布图,目标相位分布图用于表征衍射光学元件上的微结构的分布。根据本申请的设计方法可以使衍射光学元件在满足其光学性能要求的同时更易于加工。

    衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质

    公开(公告)号:CN116609940A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202210119144.3

    申请日:2022-02-08

    IPC分类号: G02B27/00 G02B5/18 G02B27/10

    摘要: 本申请提供一种衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质,该设计方法包括:获取自所述衍射光学元件出射后的出射光在输出面上的目标光场,其中,所述输出面和所述衍射光学元件间隔预定距离;根据所述目标光场,利用标量衍射理论设计获取所述衍射光学元件的第一目标相位分布;基于矢量衍射理论对所述第一目标相位分布进行优化,以获得第二目标相位分布,其中,所述第二目标相位分布用于表征所述衍射光学元件上的多个第一微结构的分布。通过本申请的设计方法可以使得DOE的输出光场均匀性。