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公开(公告)号：CN119654722A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202380056617.2
申请日：2023-06-13
Applicant: 喜星触媒株式会社
IPC: H01M8/1086 , H01M8/1004 , H01M4/88 , H01M8/10
Abstract: 本发明提供高分子电解质膜的制造方法，包括：对表面存在缺陷的高分子电解质膜施加溶剂以使所述高分子电解质膜溶胀(swelling)的步骤；和对溶胀的高分子电解质膜施加热和压力的步骤。
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