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发明公开
一种免修饰无氟光热超疏水薄膜的制备方法审中-实审

公开(公告)号：CN117964246A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202410079183.4

申请日：2024-01-19

Applicant: 哈尔滨工程大学

Inventor： 王文鑫 , 尹晓丽 , 李培元 , 尹天宇

IPC: C03C17/00

Abstract: 本发明涉及一种免修饰制备光热超疏水薄膜的方法，属于材料表面改性技术领域。目的是为了解决光热超疏水薄膜制备过程复杂、成本高、易污染环境的问题。一种免修饰制备光热超疏水薄膜的方法，包括以下步骤：基体预处理：将基体超声清洗，后干燥，对基体表面进行活化亲水处理；薄膜制备：将反应溶液附着于基体表面，固化后获得免修饰的光热超疏水薄膜。采用简单的一步喷涂法在制备了无氟炭黑/PDMS光热超疏水薄膜，且该方法操作简单，成本低，易于实现工业化生产，利于保护环境。

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