一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法

    公开(公告)号:CN111899153A

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:CN202010544350.X

    申请日:2020-06-15

    Abstract: 本发明公开了一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法。步骤1:利用基于HSV颜色空间的仿射类方法,针对实体像素计算初级αHSV值,并为后续步骤提供实体像素的先验值;步骤2:利用初级αHSV值、直接搜索、间接搜索与拟合性约束,针对混合像素计算初级前景Fpre与背景Bpre,并为后续步骤提供α与前景的混合像素的先验值;步骤3:利用步骤1的α与前景的混合像素的先验值,并引入联合性Laplacian抠像矩阵与拟合性约束,同步求出最终的α*与前景值F;步骤4:利用步骤3最终的α*与前景值F与新背景B′合成图像I′。本发明采用搜索范围更远的KNN仿射类求解方法取代最近邻方法,以期获取空间距离更远的样本。

    一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法

    公开(公告)号:CN111899153B

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202010544350.X

    申请日:2020-06-15

    Abstract: 本发明公开了一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法。步骤1:利用基于HSV颜色空间的仿射类方法,针对实体像素计算初级αHSV值,并为后续步骤提供实体像素的先验值;步骤2:利用初级αHSV值、直接搜索、间接搜索与拟合性约pre pre束,针对混合像素计算初级前景F 与背景B ,并为后续步骤提供α与前景的混合像素的先验值;步骤3:利用步骤1的α与前景的混合像素的先验值,并引入联合性Laplacian抠像矩阵与拟*合性约束,同步求出最终的α 与前景值F;步骤4:利用步骤3最终的α*与前景值F与新背景B′合成图像I′。本发明采用搜索范围更远的KNN仿射类求解方法取代最近邻方法,以期获取空间距离更远的样本。

    基于双层仿射框架的共享图像抠图方法

    公开(公告)号:CN119006511A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202411004185.3

    申请日:2024-07-25

    Abstract: 本发明公开了一种基于双层仿射框架的共享图像抠图方法。共享先验步骤充分利用共享抠像在速度和采样准确性上的优势,对每个未知像素点进行单独采样,并从中选择较好的样本对作为未知像素的前景和背景样本点,计算出未知像素的初始先验α值。充分利用KNN方法搜索样本范围宽和颜色线性模型可以更好的细节保留的优势,采用了一种双层仿射类框架对初始α进行后处理。双层抠图方法算法不仅增强了α的视觉效果,也提高了α结果的准确性。本算法无论在定性观察还是定量比较的层面,其抠图结果都有较大程度的提高,有助于供高后续虚拟合成图像的准确性。

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