基板处理设备
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    发明公开
    基板处理设备 审中-公开

    公开(公告)号:CN118805006A

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202380021111.8

    申请日:2023-02-09

    发明人: 金映绿 李智勳

    IPC分类号: C30B25/10 C30B25/08 H01J37/32

    摘要: 一种基板处理设备包含:具有侧壁的腔室;用以在腔室内部安装基板的基座;围绕腔室的顶面并由透明介电材料形成的顶圆盖;设置在顶圆盖之上以产生电感耦合等离子体的天线;以及设置以围绕天线的电磁波遮挡外壳,其中电磁波遮挡外壳可由加热器来加热。