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公开(公告)号：CN119744116A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411911439.X
申请日：2024-12-24
Applicant: 同济大学
IPC: H10N97/00
Abstract: 本发明涉及一种钡钛基铁电厚膜及其制备方法，制备方法包括：1)配制钡前驱体稀、浓溶液，钛前驱体稀、浓溶液溶液，将钡、钛前驱体稀溶液混合搅拌并陈化，得到稀凝胶，将钡、钛前驱体浓溶液混合搅拌并陈化，得到浓凝胶；2)在基底上用稀凝胶旋涂多次，每次旋涂后干燥和加热，得到稀溶胶三维网状附着层并烧结，得到第一阶段基底；3)在第一阶段基底上用稠凝胶旋涂多次，每次旋涂后干燥和加热，得到稠溶胶填充粘滞贴合层并烧结，得到第二阶段基底；4)将第二阶段基底退火处理，得到钡钛基铁电厚膜。与现有技术相比，本发明所得到的铁电膜厚度为150‑250μm，相较于目前其他的致密度差的铁电膜，具有较好的厚度，意味着可能产生更大的铁电效应。
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