公开(公告)号：CN101445927B

公开(公告)日：2011-02-02

申请号：CN200810051679.1

申请日：2008-12-25

Applicant: 吉林大学

Inventor： 吕男 ,  高立国 ,  郝娟媛 ,  胡伟 ,  石刚 ,  迟力峰

IPC: C23C28/00 ,  B05D7/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/58

Abstract: 本发明属于荧光染料-有机发光小分子发光图案化领域，具体涉及一种通过控制有机发光小分子在聚合物薄膜中的扩散，实现用一种有机发光小分子制备多色发光图案的方法。其首先是选取无机基底，对基底表面进行清洁处理后，通过旋涂的方法覆盖上一层聚合物，聚合物薄膜的厚度为50～300nm；在聚合物的表面蒸镀厚度为1～10nm的有机发光小分子薄膜；在常温常压下放置3～10周后，使有机发光小分子部分渗透到聚合物薄膜中；利用掩模板阻挡，紫外光照射，从而制备得到多色发光图案。本发明所述方法具有制作成本低廉、工艺简单、耗时短的特点，可用于制备大面积的多色发光图案。此方法在制备传感器、发光器件或显示器件中具有广泛的应用。

公开(公告)号：CN101445927A

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：CN200810051679.1

申请日：2008-12-25

Applicant: 吉林大学

Inventor： 吕男 ,  高立国 ,  郝娟媛 ,  胡伟 ,  石刚 ,  迟力峰

IPC: C23C28/00 ,  B05D7/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/58

Abstract: 本发明属于荧光染料－有机发光小分子发光图案化领域，具体涉及一种通过控制有机发光小分子在聚合物薄膜中的扩散，实现用一种有机发光小分子制备多色发光图案的方法。其首先是选取无机基底，对基底表面进行清洁处理后，通过旋涂的方法覆盖上一层聚合物，聚合物薄膜的厚度为50～300nm；在聚合物的表面蒸镀厚度为1～10nm的有机发光小分子薄膜；在常温常压下放置3～10周后，使有机发光小分子部分渗透到聚合物薄膜中；利用掩模板阻挡，紫外光照射，从而制备得到多色发光图案。本发明所述方法具有制作成本低廉、工艺简单、耗时短的特点，可用于制备大面积的多色发光图案。此方法在制备传感器、发光器件或显示器件中具有广泛的应用。