公开(公告)号：CN102713691A

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201180005259.X

申请日：2011-09-08

Applicant: 古河电气工业株式会社

Inventor： 西胁利光 ,  森田修幸 ,  石川明彦 ,  山根基宏 ,  林大辅 ,  河井功一 ,  佐藤佑辅

IPC: G02B5/08 ,  B32B3/30 ,  B32B5/18 ,  B32B7/02 ,  F21V7/00 ,  G02F1/13357

CPC classification number: G02B27/0977 ,  G02F1/133605 ,  G02F1/133611

Abstract: 本发明提供能够可靠地防止产生亮度不均的反射基材、使用该反射基材的背光源单元及反射基材的制造方法。利用激光位移计（3）取得反射基材（7）的表面形状信息。接着，将所得的凹凸信息进行傅立叶变换，针对反射基材的表面凹凸形状，可获得频率和强度的关系。然后，将计算出的频率和强度的关系、与预先设定的基准数据进行比较。在规定范围的频率区域中，若强度超过0.6时则判断为不合格，在该判断区域中若不存在超过0.6的数据，则判断为合格。