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公开(公告)号:CN111334012A
公开(公告)日:2020-06-26
申请号:CN202010172445.3
申请日:2020-03-12
Applicant: 厦门理工学院
IPC: C08L67/04 , C08K13/02 , C08K3/36 , C08K5/544 , C08K5/3475 , C08K5/20 , C08K5/52 , C08J5/18 , C08J7/06 , C23C14/10 , C23C14/20 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供了一种耐热、可降解的辐射制冷薄膜及其制备方法和用途,涉及辐射制冷技术领域,该薄膜包括依次设置的辐射制冷层、反射层和保护层,其中,所述辐射制冷层包括聚乳酸基体以及分散于所述聚乳酸基体中的制冷微粒和选择性成核剂,所述聚乳酸基体包括聚L-乳酸与聚D-乳酸的熔融混合物、光稳定剂和偶联剂,所述反射层为金属层。本发明利用聚乳酸中两种最为常见的对映立构体聚L-乳酸与聚D-乳酸的熔融共混得到立构复合晶体对聚乳酸辐射制冷薄膜进行改性,提高了其耐热性能,拓宽了应用范围。
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公开(公告)号:CN111334012B
公开(公告)日:2022-02-08
申请号:CN202010172445.3
申请日:2020-03-12
Applicant: 厦门理工学院
IPC: C08L67/04 , C08K13/02 , C08K3/36 , C08K5/544 , C08K5/3475 , C08K5/20 , C08K5/52 , C08J5/18 , C08J7/06 , C23C14/10 , C23C14/20 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供了一种耐热、可降解的辐射制冷薄膜及其制备方法和用途,涉及辐射制冷技术领域,该薄膜包括依次设置的辐射制冷层、反射层和保护层,其中,所述辐射制冷层包括聚乳酸基体以及分散于所述聚乳酸基体中的制冷微粒和选择性成核剂,所述聚乳酸基体包括聚L‑乳酸与聚D‑乳酸的熔融混合物、光稳定剂和偶联剂,所述反射层为金属层。本发明利用聚乳酸中两种最为常见的对映立构体聚L‑乳酸与聚D‑乳酸的熔融共混得到立构复合晶体对聚乳酸辐射制冷薄膜进行改性,提高了其耐热性能,拓宽了应用范围。
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