公开(公告)号：CN119843202A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202510027692.7

申请日：2025-01-08

Applicant: 厦门理工学院

Inventor： 张一旸 ,  罗志伟 ,  但雨哲 ,  郑铭泽 ,  陈皓阳 ,  李灌林 ,  刘伟平 ,  张竣淋 ,  江畅 ,  何震宇 ,  蔡建进

IPC: C23C4/123 ,  F16K17/04

Abstract: 本发明提供了一种改良的双腔锡滴喷射装置，涉及集成电路制造光刻设备技术领域。包括锡滴本体，所述锡滴本体包括加热腔以及适于与所述加热腔连通的喷射腔，所述加热腔与所述喷射腔之间设置有连通阀组件以自动控制所述加热腔与喷射腔的通断。通过采用两腔设计，将加热部分与喷射部分隔离开，既保证了整体的液态金属容量大，加热速度快，还进一步缩小了喷射部分的体积，使磁铁间距缩小，增强了磁力。

公开(公告)号：CN119532495A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411988588.6

申请日：2024-12-31

Applicant: 厦门理工学院

Inventor： 但雨哲 ,  罗志伟 ,  郑铭泽 ,  张一旸 ,  陈皓阳 ,  刘伟平 ,  李灌林 ,  张竣淋 ,  江畅 ,  何震宇 ,  蔡建进

IPC: F16K31/06

Abstract: 本发明提供了一种可调节的锡滴电磁微喷可控磁力装置，涉及电磁阀技术领域。包括连接有交变电流的电磁微喷阀，还包括：调节组件以及连接在所述调节组件且位于所述电磁微喷阀相对的两侧的两个导磁组件，所述调节组件适于驱动两个导磁组件同步靠近或者远离所述电磁微喷阀以控制作用在电磁微喷阀上的磁场强度。通过本方案可以实现对磁场强度的控制，并得到更强的磁场强度。