公开(公告)号：CN219372649U

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202320073054.5

申请日：2023-01-10

Applicant: 厦门大学

Inventor： 刘汝兵 ,  孟镱伟 ,  薛生辉 ,  林麒 ,  左博文

IPC: H05H1/52

Abstract: 本实用新型公开了一种等离子体合成射流激励器，包括：本体，其设有激励腔室，并设有与激励腔室连通的进气口和出气口；第一电极和第二电极，二者伸入激励腔室；电源，其用于为第一电极和第二电极供电；单向阀，其与进气口单向连通；和喷嘴，其设有射流通道和射流延伸面；射流通道连通出气口并形成有射流口，且其定义有射流方向；射流延伸面位于射流口一侧，且射流口与射流延伸面平滑相接；射流方向朝向射流延伸面倾斜；该激励器能够使等离子体射流贴壁流动，避免等离子体射流在射出时形成局部分离区。

公开(公告)号：CN219107746U

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN202223326580.2

申请日：2022-12-12

Applicant: 厦门大学

Inventor： 刘汝兵 ,  薛生辉 ,  林麒

IPC: H05H1/24

Abstract: 本实用新型公开了一种等离子体振荡射流激励器，其包括本体、两电极、电源和单向阀，本体设有激励腔室和振荡腔室，激励腔室可产生等离子体射流，振荡腔室设有两分隔块，该两分隔块界定有主流道和两支流道，等离子体射流通过过气口进入振荡腔室内，并在附壁效应作用以及支流道对等离子体射流的冲击作用下，往复地从贴附于左右两分隔块的位置由出气口射出，从而形成扫射形态的振荡射流，在同样流量情况下，可有效提高等离子体射流的影响范围。

公开(公告)号：CN211692653U

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN202020044696.9

申请日：2020-01-09

Applicant: 厦门大学

Inventor： 刘汝兵 ,  林瑞鑫 ,  林麒 ,  薛生辉

IPC: F02C7/04 ,  F02C7/057

Abstract: 本申请公开了一种S型进气道，包括进气道本体和若干等离子体合成射流激励器；进气道本体沿进气方向向第一方向弯曲，其弯曲部分形成弯道；各等离子体合成射流激励器的射流口布设于进气道本体内进气口处迎向第一方向的通道内壁、所述弯道的上游部分迎向第一方向的通道内壁及所述弯道的下游部分背对第一方向的通道内壁且均朝向进气道内的气体通路。采用上述技术方案，能有效抑制进气道内气体流动分离现象，改善进气道出口的流动品质。