聚二甲基硅氧烷芯片低真空键合方法

    公开(公告)号:CN1195981C

    公开(公告)日:2005-04-06

    申请号:CN03130857.0

    申请日:2003-05-15

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 涉及一种聚二甲基硅氧烷芯片低真空键合方法。其步骤为将聚合后的硅橡胶样品新鲜剥离得芯片组件,放入真空腔,抽真空,用氧气反复冲洗,排出残余气体;再抽真空,加高压使真空腔内的氧气起辉,对芯片组件表面进行氧等离子体轰击,并与大气压平衡,打开真空腔,将经氧等离子体处理好的芯片组件贴合。其键合强度很高,经拉力实验测定,可超过PDMS本体的强度,仪器设备简单,要求的真空度较低。抽真空时间、放气时间短,提高了效率。

    聚二甲基硅氧烷芯片低真空键合方法

    公开(公告)号:CN1484021A

    公开(公告)日:2004-03-24

    申请号:CN03130857.0

    申请日:2003-05-15

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 涉及一种聚二甲基硅氧烷芯片低真空键合方法。其步骤为将聚合后的硅橡胶样品新鲜剥离得芯片组件,放入真空腔,抽真空,用氧气反复冲洗,排出残余气体:再抽真空,加高压使真空腔内的氧气起辉,对芯片组件表面进行氧等离子体轰击,并与大气压平衡,打开真空腔,将经氧等离子体处理好的芯片组件贴合。其键合强度很高,经拉力实验测定,可超过PDMS本体的强度,仪器设备简单,要求的真空度较低。抽真空时间、放气时间短,提高了效率。

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