利用彩谱仪检测或辅助调控前驱体沉淀时氧化程度的方法

    公开(公告)号:CN120064147A

    公开(公告)日:2025-05-30

    申请号:CN202311616893.8

    申请日:2023-11-28

    Abstract: 本发明涉及正极材料制备技术领域,公开了利用彩谱仪检测或辅助调控前驱体沉淀时氧化程度的方法。这两种方法都包括:在前驱体沉淀过程中,每一段时间取样一次;对每次取样的每组样本中的沉淀物进行多次彩谱仪检测,记录每次检测对应的沉淀时间和色度数据L值,将该数据记录至L曲线模型中;在L曲线模型中具有L‑down曲线和L‑top曲线,L‑down曲线为氧化良好与氧化过度的临界曲线,L‑up曲线为氧化良好与氧化不足的临界曲线,该临界曲线为L值与沉淀时间关系曲线;比较该平均值与两个上下限曲线的位置关系判断是否存在氧化不足或过度氧化的情况,依据判定结果可调整沉淀工艺参数,确保后续沉淀过程氧化程度良好。

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