一种深紫外LED及其制作方法

    公开(公告)号:CN112951961B

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202110172071.X

    申请日:2021-02-08

    Abstract: 本发明提供了一种深紫外LED及其制作方法,所述深紫外LED包括:衬底;依次设置在所述衬底一侧的N型半导体层、多量子阱层、电子阻挡层和P型半导体层;其中,所述电子阻挡层为稀磁材料的电子阻挡层。该稀磁材料的电子阻挡层能够在阻挡电子的同时,对空穴的注入也起到正向的作用,提高电子和空穴的空间波函数交叠,进而提高深紫外LED的发光效率。

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