公开(公告)号：CN119948022A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202380068218.8

申请日：2023-11-06

Applicant: 卫材R&D管理有限公司

Inventor： 米田直树 ,  佐藤信明 ,  中上翼 ,  中谷祐介 ,  山下太郎 ,  伊藤洋子

IPC: C07D407/06 ,  C07B61/00 ,  C07D303/16 ,  C07F5/02 ,  C07F5/04

Abstract: 本文披露了生产普拉地内酯D的方法以及普拉地内酯D的溶剂化物的晶体，该方法包括使由式(A1)表示的化合物与由式(B1)表示的化合物在金属催化剂存在下反应以获得由式(C1)表示的化合物的步骤(在这些式中，X表示氢、任选地被取代的硼基、任选地被取代的甲锡烷基、或任选地被取代的甲硅烷基，R4是氢等，R5是任选地被取代的苯甲酰基等，并且R1和R2各自独立地是氢等)。#imgabs0#

公开(公告)号：CN105073730B

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201480009370.X

申请日：2014-02-18

Applicant: 卫材R&D管理有限公司

Inventor： 船坂势津雄 ,  冈田聪美 ,  田中圭悟 ,  永尾聪 ,  大桥功 ,  山根义伸 ,  中谷祐介 ,  唐牛夕辉

IPC: C07D401/14 ,  A61K31/4545 ,  A61K31/496 ,  A61P35/00 ,  C07D409/14

CPC classification number: C07D409/14 ,  C07D401/12 ,  C07D401/14

Abstract: 本发明披露一种由以下式(IA)代表的化合物或其一种药学上可接受的盐：其中n代表0至2；A代表亚芳基或杂亚芳基；G代表单键、氧原子或‑CH2‑；E代表含氮非芳族杂环；R1代表烷氧基、烷氧基烷氧基或类似物；R2代表氢原子、卤素原子、羟基、烷基、羟基烷基、含氮非芳族杂环基团或类似物；R3代表氢原子、烷基、烷氧基或类似物；并且R4代表C1‑6烷基，其条件是当E代表氮杂环丁烷环并且R2或R3存在于该氮杂环丁烷环上的氮原子上时，该R2或R3不代表氢原子。

公开(公告)号：CN105073730A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201480009370.X

申请日：2014-02-18

Applicant: 卫材R&D管理有限公司

Inventor： 船坂势津雄 ,  冈田聪美 ,  田中圭悟 ,  永尾聪 ,  大桥功 ,  山根义伸 ,  中谷祐介 ,  唐牛夕辉

IPC: C07D401/14 ,  A61K31/4545 ,  A61K31/496 ,  A61P35/00 ,  C07D409/14

CPC classification number: C07D409/14 ,  C07D401/12 ,  C07D401/14

Abstract: 本发明披露一种由以下式(IA)代表的化合物或其一种药学上可接受的盐：其中n代表0至2；A代表亚芳基或杂亚芳基；G代表单键、氧原子或-CH2-；E代表含氮非芳族杂环；R1代表烷氧基、烷氧基烷氧基或类似物；R2代表氢原子、卤素原子、羟基、烷基、羟基烷基、含氮非芳族杂环基团或类似物；R3代表氢原子、烷基、烷氧基或类似物；并且R4代表C1-6烷基，其条件是当E代表氮杂环丁烷环并且R2或R3存在于该氮杂环丁烷环上的氮原子上时，该R2或R3不代表氢原子。