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公开(公告)号:CN103255381B
公开(公告)日:2016-08-10
申请号:CN201310169232.5
申请日:2005-05-06
申请人: 卡伯特公司
发明人: 约翰.P.梅特雷 , 罗伯特.B.福特 , 小查尔斯.E.威克沙姆
CPC分类号: C22C5/06 , C22C5/02 , C22C9/00 , C22C14/00 , C22C16/00 , C22C19/07 , C22C21/00 , C22C27/00 , C22F1/16 , C22F1/18 , C23C14/3414
摘要: 公开了一种使用旋转轴向锻造制造溅射靶的方法。其它热机械工序可以在锻造步骤之前和/或之后使用。进一步描述了一种可以具有独特晶粒尺寸和/或晶体结构的溅射靶。
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公开(公告)号:CN103255381A
公开(公告)日:2013-08-21
申请号:CN201310169232.5
申请日:2005-05-06
申请人: 卡伯特公司
发明人: 约翰.P.梅特雷 , 罗伯特.B.福特 , 小查尔斯.E.威克沙姆
CPC分类号: C22C5/06 , C22C5/02 , C22C9/00 , C22C14/00 , C22C16/00 , C22C19/07 , C22C21/00 , C22C27/00 , C22F1/16 , C22F1/18 , C23C14/3414
摘要: 公开了一种使用旋转轴向锻造制造溅射靶的方法。其它热机械工序可以在锻造步骤之前和/或之后使用。进一步描述了一种可以具有独特晶粒尺寸和/或晶体结构的溅射靶。
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