一种针对含硅铝合金无磷酸电解抛光配方和工艺

    公开(公告)号:CN104032364A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201410275209.9

    申请日:2014-06-19

    CPC classification number: C25F3/20

    Abstract: 本发明公开了一种针对含硅铝合金无磷酸电解抛光配方和工艺,针对含硅量超过2%铝合金的表面处理,将处理干净的含硅铝合金工件放入装有电解液的电解槽内,采用恒流或恒压进行电解抛光,恒流法时平均电流密度为3-10A/dm2,恒压法时电压10-50V,通电时间3-15分钟,然后水洗、吹干即可得到高光泽的表面。本发明的优点是:解决了含硅量高的铝合金通过化学抛光无法获得光亮表面的难题,通过发明的电解液和利用传统电抛光流程即可得到高光泽的表面,提高了铸造铝合金表面的装饰效果,同时本发明采用的抛光电流密度比一般电解抛光低,能耗低,具有更好的运用价值。

    一种电化学电容器电极制备方法

    公开(公告)号:CN108866603B

    公开(公告)日:2020-11-10

    申请号:CN201810696895.5

    申请日:2018-06-29

    Abstract: 本发明公开了一种电化学电容器电极制备方法,本发明利用复合电镀的方式将粉末材料与金属镍直接沉积在泡沫镍基体上:将镍盐与水配成一定的溶液,加热,然后加入无机氧化物粉体并且持续搅拌,裁切成所需尺寸的泡沫镍基体进行除油、水洗、活化等处理,或者经过除油、水洗、活化等处理后的泡沫镍裁切成所需尺寸,然后浸入到分散有无机氧化物粉体的镍盐溶液中作为阴极,以金属镍板作为阳极,通电一定时间,即制成电极。本发明使用范围广泛,电极制作艺简单,操作方便,无机氧化物与基体结合良好。

    一种无磷酸含硅铝合金电化学抛光工艺

    公开(公告)号:CN104032363A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201410275141.4

    申请日:2014-06-19

    CPC classification number: C25F3/20

    Abstract: 本发明公开了一种无磷酸含硅铝合金电化学抛光工艺,针对含硅量超过2%铝合金的表面处理,将处理干净的含硅铝合金工件放入装有电解液的电解槽内,采用恒流或恒压进行电解抛光,恒流法时平均电流密度为3-10A/dm2,恒压法时电压10-50V,通电时间3-15分钟,然后水洗、吹干即可得到高光泽的表面。本发明的优点是:解决了含硅量高的铝合金通过化学抛光无法获得光亮表面的难题,通过发明的电解液和利用传统电抛光流程即可得到高光泽的表面,提高了铸造铝合金表面的装饰效果,同时本发明采用的抛光电流密度比一般电解抛光低,能耗低,具有更好的运用价值。

    一种铝合金氧化溶液的分析方法

    公开(公告)号:CN102109468B

    公开(公告)日:2012-11-07

    申请号:CN201010594109.4

    申请日:2010-12-17

    Abstract: 一种铝合金氧化溶液的分析方法,其特征是包括硫酸根含量的分析、草酸含量的分析、酒石酸含量的分析和游离酸度、总酸度及铝含量的分析;本发明的优点是:1、得出了一种更准确、简便的分析方法;2、调整后的分析方法,使硫酸、草酸、酒石酸浓度的测定误差分别从相对误差20%、5%、20%减少到1%~4%、0.05%~3%、2%~4%。同时也提供了简单可行的游离酸度、总酸度、Al3+含量的分析方法和工作槽液的补加维护方法。利用这种分析方法获得的测量结果均在工艺配方要求的范围内,可以满足企业对硫酸-草酸、硫酸-草酸-酒石酸氧化体系槽液各组分浓度的测定。该分析方法操作简化、实用性强、准确度高。

    一种铝合金氧化溶液的分析方法

    公开(公告)号:CN102109468A

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN201010594109.4

    申请日:2010-12-17

    Abstract: 一种铝合金氧化溶液的分析方法,其特征是包括硫酸根含量的分析、草酸含量的分析、酒石酸含量的分析和游离酸度、总酸度及铝含量的分析;本发明的优点是:1、得出了一种更准确、简便的分析方法;2、调整后的分析方法,使硫酸、草酸、酒石酸浓度的测定误差分别从相对误差20%、5%、20%减少到1%~4%、0.05%~3%、2%~4%。同时也提供了简单可行的游离酸度、总酸度、Al3+含量的分析方法和工作槽液的补加维护方法。利用这种分析方法获得的测量结果均在工艺配方要求的范围内,可以满足企业对硫酸-草酸、硫酸-草酸-酒石酸氧化体系槽液各组分浓度的测定。该分析方法操作简化、实用性强、准确度高。

    一种针对含硅铝合金电解抛光配方和工艺

    公开(公告)号:CN104032365B

    公开(公告)日:2017-04-19

    申请号:CN201410275239.X

    申请日:2014-06-19

    CPC classification number: C25F3/20

    Abstract: 本发明公开了一种针对含硅铝合金电解抛光配方和工艺,针对含硅量超过2%铝合金的表面处理,将处理干净的含硅铝合金工件放入装有电解液的电解槽内,电解液温度控制在30‑‑60℃,采用恒流或恒压进行电解抛光,恒流法时平均电流密度为3‑10A/ dm2,恒压法时电压30‑60V,通电时间3‑15分钟,然后水洗、吹干即可得到高光泽的表面。本发明的优点是:解决了含硅量高的铝合金通过化学抛光无法获得光亮表面的难题,通过发明的电解液和利用传统电抛光流程即可得到高光泽的表面,提高了铸造铝合金表面的装饰效果,同时本发明采用的抛光电流密度比一般电解抛光低,能耗低,具有更好的运用价值。

    一种针对含硅铝合金电解抛光配方和工艺

    公开(公告)号:CN104032365A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201410275239.X

    申请日:2014-06-19

    CPC classification number: C25F3/20

    Abstract: 本发明公开了一种针对含硅铝合金电解抛光配方和工艺,针对含硅量超过2%铝合金的表面处理,将处理干净的含硅铝合金工件放入装有电解液的电解槽内,电解液温度控制在30--60℃,采用恒流或恒压进行电解抛光,恒流法时平均电流密度为3-10A/dm2,恒压法时电压30-60V,通电时间3-15分钟,然后水洗、吹干即可得到高光泽的表面。本发明的优点是:解决了含硅量高的铝合金通过化学抛光无法获得光亮表面的难题,通过发明的电解液和利用传统电抛光流程即可得到高光泽的表面,提高了铸造铝合金表面的装饰效果,同时本发明采用的抛光电流密度比一般电解抛光低,能耗低,具有更好的运用价值。

    一种电化学电容器电极制备方法

    公开(公告)号:CN108866603A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201810696895.5

    申请日:2018-06-29

    Abstract: 本发明公开了一种电化学电容器电极制备方法,本发明利用复合电镀的方式将粉末材料与金属镍直接沉积在泡沫镍基体上:将镍盐与水配成一定的溶液,加热,然后加入无机氧化物粉体并且持续搅拌,裁切成所需尺寸的泡沫镍基体进行除油、水洗、活化等处理,或者经过除油、水洗、活化等处理后的泡沫镍裁切成所需尺寸,然后浸入到分散有无机氧化物粉体的镍盐溶液中作为阴极,以金属镍板作为阳极,通电一定时间,即制成电极。本发明使用范围广泛,电极制作艺简单,操作方便,无机氧化物与基体结合良好。

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