公开(公告)号：CN115128706B

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN202210927370.4

申请日：2022-08-03

Applicant: 南开大学

Inventor： 陈树琪 ,  程佳琪 ,  李占成 ,  刘文玮 ,  程化 ,  田建国

IPC: G02B1/00 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供了一种超构表面结构及超构表面圆偏振光反射强度设定方法，涉及光学图像生成技术领域，本发明提供的超构表面结构由多个基体结构单元组成，采用二氧化硅层铺覆于金属基底层上，第一金属伞件和第二金属伞件分别连接于二氧化硅层背离金属基底层的表面上。在第一伞帽部和第二伞帽部其一弧度一定的条件下，可以通过设计改变另一弧度参数实现对圆偏振光的反射强度的连续调节，进而可以被应用于实现自旋选择的高阶灰度成像，具有高效率、高分辨率、高灰阶数和高集成度等优点。

公开(公告)号：CN115128706A

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN202210927370.4

申请日：2022-08-03

Applicant: 南开大学

Inventor： 陈树琪 ,  程佳琪 ,  李占成 ,  刘文玮 ,  程化 ,  田建国

IPC: G02B1/00 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供了一种超构表面结构及超构表面圆偏振光反射强度设定方法，涉及光学图像生成技术领域，本发明提供的超构表面结构由多个基体结构单元组成，采用二氧化硅层铺覆于金属基底层上，第一金属伞件和第二金属伞件分别连接于二氧化硅层背离金属基底层的表面上。在第一伞帽部和第二伞帽部其一弧度一定的条件下，可以通过设计改变另一弧度参数实现对圆偏振光的反射强度的连续调节，进而可以被应用于实现自旋选择的高阶灰度成像，具有高效率、高分辨率、高灰阶数和高集成度等优点。