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公开(公告)号：CN112162393B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202011082812.7
申请日：2020-10-12
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种产生高方向性横向单向散射的纳米光学方法，属于新型纳米光学技术领域。本发明基于聚焦径向偏振光与硅长方体的相互作用，通过调节硅长方体的长、宽、高这三个结构参数以及长方体在焦平面上的横向位移量，使得总电偶极矩的轴向分量、磁偶极矩的横向分量以及磁四极距垂直于传播轴的平面分量之间的相位差和振幅比满足横向Kerker散射条件，实现高方向性横向单向散射。本发明提出的方法可以将横向单向散射的辐射角度降低至60°。
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公开(公告)号：CN115542582A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202110723715.X
申请日：2021-06-29
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种基于聚焦径向和线偏振光场的定向散射三维方向可调方法，属于新型纳米光学技术领域。本发明基于聚焦径向和线偏振光场与硅纳米盘的相互作用，通过合理设计硅纳米盘的结构参数，选择合适的工作波长，调节径向偏振光与线偏振光的振幅比以及线偏振光的偏振方向，对总电偶极矩横向、纵向分量和磁偶极矩横向分量之间的相位和振幅关系进行调控，当满足指定方向的通用Kerker条件时，将实现定向散射在三维空间范围内的可调谐性。本发明提出的调节方法可实现对定向散射的三维方向调控，且是一种主动式调控方法和手段，在实际应用中具有灵活便捷的优势。
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公开(公告)号：CN113805330A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202010547913.0
申请日：2020-06-16
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种产生高方向性横向单向散射的纳米光学方法，属于新型纳米光学技术领域。本发明基于聚焦径向偏振光与硅球三聚体的相互作用，通过调节硅球三聚体的三个球半径以及在聚焦平面上的横向位置，使得三个硅球激发的总电偶极距轴向分量之和与磁偶极距横向分量之和满足横向Kerker散射条件，实现高方向性的横向单向散射。本发明提出的实现高方向性横向单向散射的方法可以将横向单向散射的散射角降低至43°，显著提高了横向单向散射的方向性。
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公开(公告)号：CN112946878B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN201911264074.5
申请日：2019-12-11
Applicant: 南开大学
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明涉及一种产生宽带横向单向散射的纳米光学方法，属于新型纳米光学技术领域。本发明基于聚焦径向偏振光与硅中空纳米碟的相互作用，通过调节纳米碟的内、外环半径、高度这三个结构参数以及纳米碟在焦平面上的横向位移量，使得总电偶极矩的轴向分量和磁偶极矩的横向分量满足同位相和振幅相等的Kerker条件，实现宽带横向单向散射。本发明提出的横向单向散射方法具有：1)宽带响应特性；2)主动调控优势。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115542582B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202110723715.X
申请日：2021-06-29
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种基于聚焦径向和线偏振光场的定向散射三维方向可调方法，属于新型纳米光学技术领域。本发明基于聚焦径向和线偏振光场与硅纳米盘的相互作用，通过合理设计硅纳米盘的结构参数，选择合适的工作波长，调节径向偏振光与线偏振光的振幅比以及线偏振光的偏振方向，对总电偶极矩横向、纵向分量和磁偶极矩横向分量之间的相位和振幅关系进行调控，当满足指定方向的通用Kerker条件时，将实现定向散射在三维空间范围内的可调谐性。本发明提出的调节方法可实现对定向散射的三维方向调控，且是一种主动式调控方法和手段，在实际应用中具有灵活便捷的优势。
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公开(公告)号：CN112946878A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201911264074.5
申请日：2019-12-11
Applicant: 南开大学
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明涉及一种产生宽带横向单向散射的纳米光学方法，属于新型纳米光学技术领域。本发明基于聚焦径向偏振光与硅中空纳米碟的相互作用，通过调节纳米碟的内、外环半径、高度这三个结构参数以及纳米碟在焦平面上的横向位移量，使得总电偶极矩的轴向分量和磁偶极矩的横向分量满足同位相和振幅相等的Kerker条件，实现宽带横向单向散射。本发明提出的横向单向散射方法具有：1)宽带响应特性；2)主动调控优势。
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公开(公告)号：CN112162393A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202011082812.7
申请日：2020-10-12
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种产生高方向性横向单向散射的纳米光学方法，属于新型纳米光学技术领域。本发明基于聚焦径向偏振光与硅长方体的相互作用，通过调节硅长方体的长、宽、高这三个结构参数以及长方体在焦平面上的横向位移量，使得总电偶极矩的轴向分量、磁偶极矩的横向分量以及磁四极距垂直于传播轴的平面分量之间的相位差和振幅比满足横向Kerker散射条件，实现高方向性横向单向散射。本发明提出的方法可以将横向单向散射的辐射角度降低至60°。
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公开(公告)号：CN100410719C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200610016134.8
申请日：2006-10-11
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种光学显微成像领域中的共焦成像系统，是一种通过采用虚拟共焦针孔使系统获得纵向层析能力的共焦显微系统，可广泛应用于荧光显微术、非线性光学显微术等具有三维成像能力的显微技术中。本发明包括点光源，准直透镜，分光镜，显微物镜，载物台，收集透镜以及CCD。其特点是CCD的光敏面直接位于收集透镜的焦平面位置，计算机根据收集透镜焦点的位置，在CCD采集到的二维数字图像上的相应位置设置虚拟共焦针孔，只将针孔内像元上的信号值累加起来作为当前扫描点的信号强度，排除了非焦平面杂散光对成像质量的影响。虚拟共焦针孔的作用与物理共焦针孔的作用相当，且位置、大小可由计算机控制和调整，具有校准调节方便等优点。
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公开(公告)号：CN1971333A
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200610016134.8
申请日：2006-10-11
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种光学显微成像领域中的共焦成像系统，是一种通过采用虚拟共焦针孔使系统获得纵向层析能力的共焦显微系统，可广泛应用于荧光显微术、非线性光学显微术等具有三维成像能力的显微技术中。本发明包括点光源，准直透镜，分光镜，显微物镜，载物台，收集透镜以及CCD。其特点是CCD的光敏面直接位于收集透镜的焦平面位置，计算机根据收集透镜焦点的位置，在CCD采集到的二维数字图像上的相应位置设置虚拟针孔，只将针孔内像元上的信号值累加起来作为当前扫描点的信号强度，排除了非焦平面杂散光对成像质量的影响。虚拟共焦针孔的作用与物理共焦针孔的作用相当，且位置、大小可由计算机控制和调整，具有校准调节方便等优点。
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