一种基于衍射效应的成像光谱仪及其超光谱成像方法

    公开(公告)号:CN109556716A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201811396933.1

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本发明揭示了一种基于衍射效应的成像光谱仪及其超光谱成像方法,该成像光谱仪包括第一准直器件、衍射器件、第二准直器件、阵列式探测芯片及与阵列式探测芯片连接的数据计算与分析系统,第一准直器件使得待测光谱成像区域内各部位所发出的其中一束光以固定角度入射到衍射器件表面的不同部位;衍射器件用于令入射到衍射器件的光发生散射效应,使得不同频率相同强度的入射光经过衍射器件的相同部位后所发射出的衍射光具有不同的散射光强角分布,且相同频率相同强度的入射光经过衍射器件的不同部位所发射出散射光的光强角分布也不同。通过将待测光谱成像区域分成m个子单元区域,可分别利用阵列式探测芯片上不同的像素元区域实时进行成像光谱测量。

    一种基于衍射效应的成像光谱仪及其超光谱成像方法

    公开(公告)号:CN109556716B

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN201811396933.1

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本发明揭示了一种基于衍射效应的成像光谱仪及其超光谱成像方法,该成像光谱仪包括第一准直器件、衍射器件、第二准直器件、阵列式探测芯片及与阵列式探测芯片连接的数据计算与分析系统,第一准直器件使得待测光谱成像区域内各部位所发出的其中一束光以固定角度入射到衍射器件表面的不同部位;衍射器件用于令入射到衍射器件的光发生衍射效应,使得不同频率相同强度的入射光经过衍射器件的相同部位后所发射出的衍射光具有不同的衍射光强角分布,且相同频率相同强度的入射光经过衍射器件的不同部位所发射出衍射光的光强角分布也不同。通过将待测光谱成像区域分成m个子单元区域,可分别利用阵列式探测芯片上不同的像素元区域实时进行成像光谱测量。

    一种基于散射效应的成像光谱仪及其超光谱成像方法

    公开(公告)号:CN109556717B

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN201811396934.6

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本发明揭示了一种基于散射效应的成像光谱仪及其超光谱成像方法,该成像光谱仪包括第一准直器件、散射器件、第二准直器件、阵列式探测芯片及与阵列式探测芯片连接的数据计算与分析系统;第一准直器件使得待测光谱成像区域内各部位所发出的其中一束光以固定角度入射到散射器件表面的不同部位;散射器件用于令入射到散射器件的光发生散射效应,使得不同频率相同强度的入射光经过散射器件的相同部位后所发射出的散射光具有不同的散射光强角分布,且相同频率相同强度的入射光经过散射器件的不同部位所发射出散射光的光强角分布也不同。通过将待测光谱成像区域分成m个子单元区域,可分别利用阵列式探测芯片上不同的像素元区域实时进行成像光谱测量。

    一种基于散射效应的成像光谱仪及其超光谱成像方法

    公开(公告)号:CN109556717A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201811396934.6

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本发明揭示了一种基于散射效应的成像光谱仪及其超光谱成像方法,该成像光谱仪包括第一准直器件、散射器件、第二准直器件、阵列式探测芯片及与阵列式探测芯片连接的数据计算与分析系统;第一准直器件使得待测光谱成像区域内各部位所发出的其中一束光以固定角度入射到散射器件表面的不同部位;散射器件用于令入射到散射器件的光发生散射效应,使得不同频率相同强度的入射光经过散射器件的相同部位后所发射出的散射光具有不同的散射光强角分布,且相同频率相同强度的入射光经过散射器件的不同部位所发射出散射光的光强角分布也不同。通过将待测光谱成像区域分成m个子单元区域,可分别利用阵列式探测芯片上不同的像素元区域实时进行成像光谱测量。

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