一种低温等离子体材料处理设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117352361A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202311283871.4

    申请日:2023-10-07

    Abstract: 本发明公开了一种低温等离子体材料处理设备,属于材料处理技术领域,包括底座,所述底座的顶部一侧固定连接有龙门架,所述龙门架上设置有调节组件。本发明中,外部供气装置会将反应气体通过气体接口和管道输送至连接管的内部,随着其内部压力的不断升高,会大于弹性阀片的开启值,此时反应气体会第一通孔和喷头喷出,使反应气体在陶瓷高压电极的两侧形成气体风幕,防止外部空气中的浮尘对工件的表面处理质量造成影响,进而有效的提高了设备的处理效果,通过设置的弹性阀片防止连接管内部的气体直接通过距离较近的喷头喷出,有效减少了不同位置喷头的喷出速度差异,大大减少了其喷出流量及其喷射量不同带来的不良影响。

    高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法

    公开(公告)号:CN114701154B

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202111615862.1

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本发明公开了高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法,属于等离子体连续处理设备技术领域,高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法,包括外框架,设置在外框架中的内框架,所述内框架八个角点处倾斜设有C型钢,各个所述C型钢上设有浮动件,所述内框架中竖直放置有高压电极,所述高压电极中同轴设有接地电极,所述高压电极通过各个浮动件与内框架活动连接,本等离子体连续处理装置其优点在于,防止高分子材料管道在进行内外表面处理时产生阻塞、拉腔、倒架的现象,进而使得低温等离子连续处理体装置对高分子材料管道的处理能够连续进行,同时能够在处理面上产生均匀密集的等离子体,处理效果均匀。

    一种金属旋转体工件材料表面处理方法与装置

    公开(公告)号:CN114309836A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202210076708.X

    申请日:2022-01-24

    Abstract: 本发明公开了一种金属旋转体工件材料表面处理方法与装置,属于等离子体处理技术领域,包括处理平台与低温等离子体脉冲电源,处理平台上竖直设有的第一支撑柱与第二支撑柱,第一支撑柱与第二支撑柱上同轴转动连接有第一转盘与第二转盘,第一转盘与第二转盘沿圆周方向竖直设有用于装夹金属工件的三个相对的第一支撑块与第二支撑块,处理平台上设有驱动第一转盘与第二转盘同步转动的驱动件,第一支撑柱远离处理平台的一端水平设有支撑杆,支撑杆上设有对金属工件内表面进行处理的第一高压电极,处理平台上滑移连接有移动架,移动架上设有对金属工件外表面进行处理的第二高压电极,本装置优点在于,内外表面处理均匀,处理效率高,节能无污染。

    高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法

    公开(公告)号:CN114701154A

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN202111615862.1

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本发明公开了高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法,属于等离子体连续处理设备技术领域,高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法,包括外框架,设置在外框架中的内框架,所述内框架八个角点处倾斜设有C型钢,各个所述C型钢上设有浮动件,所述内框架中竖直放置有高压电极,所述高压电极中同轴设有接地电极,所述高压电极通过各个浮动件与内框架活动连接,本等离子体连续处理装置其优点在于,防止高分子材料管道在进行内外表面处理时产生阻塞、拉腔、倒架的现象,进而使得低温等离子连续处理体装置对高分子材料管道的处理能够连续进行,同时能够在处理面上产生均匀密集的等离子体,处理效果均匀。

    一种物料消杀装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118160781A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202410277733.3

    申请日:2024-03-12

    Abstract: 本发明公开了一种物料消杀装置,包括物料仓、等离子发生组件、消杀辅助组件,物料仓用于存储目标物料,目标物料为待消杀的物料;等离子发生组件用于产生目标低温等离子体,等离子发生组件与物料仓连通;消杀辅助组件设置在等离子发生组件一侧,消杀辅助组件与等离子发生组件连通,消杀辅助组件用于辅助等离子发生组件为物料仓提供循环目标气体,其中,循环目标气体包括击穿气体或循环目标气体包括余量低温等离子体和击穿气体的混合气体,余量低温等离子体为目标低温等离子体中的一部分。本技术方案可以通过消杀辅助组件为等离子发生组件循环提供击穿气体,实现了物料的循环消杀,提高了物料消杀精度。

    一种金属旋转体工件材料表面处理方法与装置

    公开(公告)号:CN114309836B

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202210076708.X

    申请日:2022-01-24

    Abstract: 本发明公开了一种金属旋转体工件材料表面处理方法与装置,属于等离子体处理技术领域,包括处理平台与低温等离子体脉冲电源,处理平台上竖直设有的第一支撑柱与第二支撑柱,第一支撑柱与第二支撑柱上同轴转动连接有第一转盘与第二转盘,第一转盘与第二转盘沿圆周方向竖直设有用于装夹金属工件的三个相对的第一支撑块与第二支撑块,处理平台上设有驱动第一转盘与第二转盘同步转动的驱动件,第一支撑柱远离处理平台的一端水平设有支撑杆,支撑杆上设有对金属工件内表面进行处理的第一高压电极,处理平台上滑移连接有移动架,移动架上设有对金属工件外表面进行处理的第二高压电极,本装置优点在于,内外表面处理均匀,处理效率高,节能无污染。

    一种便于拆卸组合的金属毛刷结构

    公开(公告)号:CN216601987U

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202123320066.3

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本实用新型公开了一种便于拆卸组合的金属毛刷结构,属于等离子体连续处理设备技术领域,一种便于拆卸组合的金属毛刷结构,包括框架,设置在框架上四个角点上的槽钢,各个所述槽钢上均设有浮动件,所述框架内通过浮动件架设有高压电极,各个所述浮动件均穿设在高压电极上,所述高压电极中同轴设有接地电极,所述高压电极与接地电极之间形成供高分子材料管道通过的等离子体区域,所述接地电极包括设置在高压电极内的接地电极外骨架,所述接地电极外骨架沿圆周方向竖直均匀设有六个模块化的毛刷件,本金属毛刷结构其优点在于,采用模块化的毛刷件沿接地电极外骨架圆周方向竖直均匀设置,方便对毛刷件进行更换维修。

    一种低温等离子体气雾发生装置和粮食仓库霉菌及害虫消杀装置

    公开(公告)号:CN222322696U

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202420334562.9

    申请日:2024-02-23

    Abstract: 本实用新型提供一种低温等离子体气雾发生装置和粮食仓库霉菌及害虫消杀装置,包括集成在主箱体内的等离子体发生器、风机和封闭腔体,等离子体发生器设置在封闭腔体内部,封闭腔体上设置有进风口和出风口,进风口与风机的排风口连接,出风口与外部连通。本实用新型还提供一种低温等离子体气雾发生装置,包括粮食仓库以及以上所述的低温等离子体气雾发生装置。本实用新型低温等离子体气雾发生装置能够产生等离子体,并通过风机持续排出高浓度的等离子体气雾;将低温等离子体气雾发生装置与粮库结合,可用于粮食储存仓库前对粮食原料的原始微生物及害虫的处理,无化学残留,环保无污染、效率高且粮食品质不受任何损害,不需其他的配套贮藏技术就能储存更长时间。

    一种高分子材料管道的粘接生产用弹性结构

    公开(公告)号:CN216610039U

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202123314418.4

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本实用新型公开了一种高分子材料管道的粘接生产用弹性结构,属于等离子体连续处理设备技术领域,一种高分子材料管道的粘接生产用弹性结构,包括外框架,设置在外框架上的内框架,所述内框架四个脚点处分别倾斜设有两个相对的槽钢,所述内框架中设有高压电极,所述高压电极中同轴设有接地电极,所述高压电极与接地电极之间形成对高分子材料管道进行内外表面处理的等离子体区域,各个所述槽钢与高压电极之间均设有提高高分子材料管道稳定通过等离子体区域的浮动装置,本弹性结构其优点在于,减少高分子材料管道在进行等离子体处理时的震动,提高等离子体处理的效果。

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