掺杂氧化铈电解质薄膜生长调节方法

    公开(公告)号:CN119674153A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202411674398.7

    申请日:2024-11-21

    Abstract: 本发明公开了一种掺杂氧化铈电解质薄膜生长调节方法,其步骤为:将半电池置于Ce和X的可溶性盐溶液中,确使半电池的氧化锆基电解质与可溶性盐溶液接触,加入甲醇,转移至反应釜中,于一定温度下进行水热溶液结晶成膜,一段时间后形成掺杂氧化铈电解质陶瓷薄膜。本发明结合水热溶液结晶原位成膜技术,通过添加适宜含量的甲醇改变前驱液物理性质,比如极性、介电常数、表面张力等,精确控制电解质陶瓷薄膜掺杂元素的掺杂量,定向修饰晶粒尺寸及形貌。

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