一种基于头盔显示的二维扩瞳全息波导结构

    公开(公告)号:CN114839713B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202210540137.0

    申请日:2022-05-18

    Abstract: 本发明公开了一种基于头盔显示的二维扩瞳全息波导结构,该方法可解决目前全息波导显示系统普遍存在的图像亮度均匀性差和出曈面照度均匀性差的问题。本发明所述结构包括像源、准直透镜、入射耦合光栅、中间光栅、出射耦合光栅、平板波导和眼睛图像点亮发出的光线经过准直透镜准直以后,在入射耦合光栅、中间光栅、出射耦合光栅上发生衍射;所述平板波导使光线在波导中全反射前进,最后达到人眼成像。基于本发明所述的结构,可通过Matalb来控制ZEMAX中的光线追迹过程,并根据追迹结果调整中间光栅和出射光栅的分区以及峰值衍射效率,使画面均匀度达到某一定值。

    一种用于导弹结构体电磁规律的降维分析方法

    公开(公告)号:CN115248974A

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN202111560362.2

    申请日:2021-12-20

    Abstract: 本发明公开了一种用于导弹结构体电磁规律的降维分析方法,涉及电磁散射分析技术领域,本发明利用导弹结构体的轴对称特性,将其电磁规律的分析过程转换至二维直角坐标平面进行处理,即,以z轴为旋转中心,绕该轴,通过多个二维直角坐标平面累加构成三维空间具有旋转对称特性的导弹结构体。进而,通过移除方向的坐标变换实现导弹结构体在二维空间的计算,相比于利用传统三维柱坐标法对导弹结构体电磁规律的分析,本发明使电磁学中具有超大尺寸细微结构的导弹结构体得以简单计算,节约内存消耗,降低硬件成本。

    一种可内外部清洁的桶体清洗装置

    公开(公告)号:CN119114556A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202411423952.4

    申请日:2024-10-12

    Abstract: 本发明公开了一种可内外部清洁的桶体清洗装置,包括支架,在所述支架的顶部设置有横托机构,所述横托机构的端部设置有清洗机构,所述清洗机构包括内清洗喷头、外清洗喷头和导向框,所述内清洗喷头设置在导向框的内侧,且可伸入桶体的内侧,所述外清洗喷头设置在导向框的外侧,且沿着导向框的周长方向移动;本发明设置支架,以及连杆可相对底管升降,因此,可调整横托机构的高度,因清洗机构设置在横托机构上,同时可调整内清洗喷头和外清洗喷头的高度;因内清洗喷头安装在支撑板端部,且支撑板的端部相对第二横板活动安装,因此,可在电机控制支撑板转动的情况下,控制内清洗喷头自转,因外清洗喷头可调节设置在支撑板上。

    一种基于头盔显示的二维扩瞳全息波导结构

    公开(公告)号:CN114839713A

    公开(公告)日:2022-08-02

    申请号:CN202210540137.0

    申请日:2022-05-18

    Abstract: 本发明公开了一种基于头盔显示的二维扩瞳全息波导结构,该方法可解决目前全息波导显示系统普遍存在的图像亮度均匀性差和出曈面照度均匀性差的问题。本发明所述结构包括像源、准直透镜、入射耦合光栅、中间光栅、出射耦合光栅、平板波导和眼睛图像点亮发出的光线经过准直透镜准直以后,在入射耦合光栅、中间光栅、出射耦合光栅上发生衍射;所述平板波导使光线在波导中全反射前进,最后达到人眼成像。基于本发明所述的结构,可通过Matalb来控制ZEMAX中的光线追迹过程,并根据追迹结果调整中间光栅和出射光栅的分区以及峰值衍射效率,使画面均匀度达到某一定值。

    一种金属管道电磁抛光设备
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119795006A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202510149767.9

    申请日:2025-02-11

    Abstract: 本发明公开了一种金属管道电磁抛光设备,涉及电磁抛光技术领域,包括底座、注射管组件、强磁组件以及弱磁组件,所述注射管组件、强磁组件以及弱磁组件在底座上依次排列安装;所述注射管组件内设有注射管以及螺纹输送结构;所述强磁组件包括强磁铁以及转动环;所述弱磁组件包括磁环以及连接组件,所述磁环包括若干件并且等间隔设置,所述磁环为电磁铁并且吸力大小可调节,所述磁环通过齿轮筒连接在连接组件上,所述连接组件的末端连接在支撑架上,所述支撑架固定安装在底座上,本发明通过设置的强磁组件配合能够带动管道移动的电推杆以及注射管组件能够帮助管道内部的各个位置均能够被强磁铁带动的磨粒抛光。

    一种用于批量制备全息衍射波导的曝光区域计算方法及其应用

    公开(公告)号:CN114815024B

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202210543887.3

    申请日:2022-05-19

    Abstract: 本发明公开了一种用于批量制备全息衍射波导的曝光区域计算方法及其应用,所述方法用于批量制备全息衍射波导的曝光装置的中的全息干板移动控制和曝光区域形状及面积计算,根据曝光参数,计算出入耦合光栅尺寸和波导片尺寸,进一步的在批量制备全息衍射波导的曝光装置通过控制全息干板的移动,包括控制其位移、位移间隔时间和待曝光的区域形状及面积,得到全息干板曝光结束总时长以及总位移的相关控制信号,最后通过控制电机平移台的输入电流信号,基于批量曝光装置,实现全息波导光栅的批量曝光处理。

    一种带有感应线圈的安全熨烫装置

    公开(公告)号:CN113106720B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202110405446.2

    申请日:2021-04-15

    Abstract: 本发明公开了一种带有感应线圈的安全熨烫装置,涉及熨烫设备领域,包括底座、熨衣板和手套,所述底座包括基板以及安装于基板内的感应线圈,所述感应线圈通过电线与外部电源连接,所述熨衣板材质为铁或不锈钢,且连接于手套的下端,所述手套从外至里依次设置有外衬层、绝缘层和内里层,所述外衬层和熨衣板连接,本发明结构简单,方便携带;通过设置内有感应线圈的基板和带有熨烫板的手套,利用感应线圈产生磁场,磁场内的磁力线穿过熨烫板底部时产生涡流,令熨烫板底部迅速发热,从而方便熨烫,能耗低,且待加热时间短;当断电时,熨烫板底部温度迅速下降,不会造成烫伤儿童的安全隐患;同时还设置了加热系统,在不使用基板的情况下也可以对熨烫板进行快速加热。

    一种用于批量制备全息衍射波导的曝光区域计算方法及其应用

    公开(公告)号:CN114815024A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210543887.3

    申请日:2022-05-19

    Abstract: 本发明公开了一种用于批量制备全息衍射波导的曝光区域计算方法及其应用,所述方法用于批量制备全息衍射波导的曝光装置的中的全息干板移动控制和曝光区域形状及面积计算,根据曝光参数,计算出入耦合光栅尺寸和波导片尺寸,进一步的在批量制备全息衍射波导的曝光装置通过控制全息干板的移动,包括控制其位移、位移间隔时间和待曝光的区域形状及面积,得到全息干板曝光结束总时长以及总位移的相关控制信号,最后通过控制电机平移台的输入电流信号,基于批量曝光装置,实现全息波导光栅的批量曝光处理。

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