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公开(公告)号:CN118131476B
公开(公告)日:2024-09-20
申请号:CN202410565419.5
申请日:2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括:基材;单层微纳结构,设置于基材的一侧,单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构;其中,目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后,目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像,保证成像的清晰度,并且不仅可实现近距离三维空间成像效果,也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号:CN118131476A
公开(公告)日:2024-06-04
申请号:CN202410565419.5
申请日:2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括:基材;单层微纳结构,设置于基材的一侧,单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构;其中,目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后,目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像,保证成像的清晰度,并且不仅可实现近距离三维空间成像效果,也可以实现远距离空间投影成像效果。
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