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公开(公告)号：CN204855052U
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201520348648.8
申请日：2015-05-26
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本实用新型公开了一种用于硅玻璃静电键合应力的干涉测量系统，包括一个He-Ne激光器作为光源，一个泰曼-格林干涉系统用于产生干涉条纹，一个压电陶瓷（PZT）移相装置，一个CMOS相机采集干涉条纹并送到计算机进行处理。本干涉测量系统可以完成微机械器件力学性能的非接触测量，具有灵敏度高、空间分辨率高、条纹质量好、量程大、可实时观测等优点，能实现MEMS工艺静电键合时器件形变和应力等可靠性测试。
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