一种太赫兹窄带吸收装置

    公开(公告)号:CN220122111U

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202320337958.4

    申请日:2023-02-28

    Abstract: 本实用新型公开了一种太赫兹窄带吸收装置,属于太赫兹吸收器技术领域,包括依次堆叠的金属衬底、硅介质层、第一二氧化硅介质层、第二二氧化硅介质层和石墨烯层;所述第二二氧化硅介质层内开设有与第一二氧化硅介质层、石墨烯层相通的腔体;通过在石墨烯层表面引起环形电流,分别在第二二氧化硅腔体和硅介质层中产生强烈的磁共振,电磁共振互相作用产生了两个极窄的吸收峰,且第一二氧化硅介质层两侧积累了大量的电荷,同时硅介质层内产生强烈的磁共振,因此在高频波段内产生了一个极窄的完美吸收峰,实现了三通道窄带吸收。

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