书画清洗装置及设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107974868A

    公开(公告)日:2018-05-01

    申请号:CN201711426599.5

    申请日:2017-12-25

    Abstract: 本发明提供了一种书画清洗装置及设备,涉及书画清洗的技术领域,所述书画清洗装置,包括超临界二氧化碳源、清洗腔体和固定机构,所述固定机构用于将待清洗书画固定在清洗腔体内;所述清洗腔体的内壁上设置有进口和出口,所述超临界二氧化碳源与所述清洗腔体的进口连接;所述进口和出口分别位于所述待清洗书画的两侧,以使从所述进口射出的超临界二氧化碳穿透过所述待清洗书画后从所述出口排出。依靠超临界二氧化碳源对书画进行清理,避免了水对书画的损害,同时,剩余的二氧化碳成为气体后也不会对环境造成损害。

    书画清洗装置及设备
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207685597U

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201721838780.2

    申请日:2017-12-25

    Abstract: 本实用新型提供了一种书画清洗装置及设备,涉及书画清洗的技术领域,所述书画清洗装置,包括超临界二氧化碳源、清洗腔体和固定机构,所述固定机构用于将待清洗书画固定在清洗腔体内;所述清洗腔体的内壁上设置有进口和出口,所述超临界二氧化碳源与所述清洗腔体的进口连接;所述进口和出口分别位于所述待清洗书画的两侧,以使从所述进口射出的超临界二氧化碳穿透过所述待清洗书画后从所述出口排出。依靠超临界二氧化碳源对书画进行清理,避免了水对书画的损害,同时,剩余的二氧化碳成为气体后也不会对环境造成损害。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

Patent Agency Ranking