一种WO<base:Sub>3</base:Sub>纳米片层材料的制备方法

    公开(公告)号:CN104724758B

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201510101103.1

    申请日:2015-03-06

    Abstract: 本发明公开了属于纳米材料制备技术领域的一种多纳米片层WO3阵列材料的制备方法。本发明的方法直接用导电玻璃为衬底,采用钨酸钠为钨源,控制溶液在一定pH值条件下,利用一步水热法合成WO3纳米片层阵列材料。本发明方法简单安全,制备成本低,易于控制;制备出的纳米阵列形貌均一,且直接生长于FTO 衬底上,可与导电基底形成更好的导电通道,在太阳能电池领域及光催化领域将有更广阔的应用前景,同时也是制备电致变色薄膜、光致变色薄膜、气敏传感器的理想材料。

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