大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工方法

    公开(公告)号:CN104108053A

    公开(公告)日:2014-10-22

    申请号:CN201410275439.5

    申请日:2014-06-19

    CPC classification number: C23F4/00

    Abstract: 本发明公开了一种金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工方法,该方法首先采用射频振荡产生等离子体磁流体通道,对待抛光加工的金属表面凸起部位进行脉冲放电,产生的等离子弧经过磁流体通道后,得到强度和密度增强的等离子弧,该增强等离子弧对金属表面凸起部位进行轰击,使该部位形成阳极斑点后蒸发去除,并通过放电极性的调节实现去除凸起的光亮化,实现该位置的抛光加工。本发明方法解决了常规金属表面抛光方法的加工效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。能够在大气压下进行,可实现粗抛、细抛和精抛,不需要在金属抛光表面涂上任何研磨液和化学反应物,精密化抛光后形成的表面粗糙度小,可达到Ra0.2μm。

    一种中低应力工况下高锰钢耐磨强化方法

    公开(公告)号:CN104087929A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201410304212.9

    申请日:2014-06-27

    Abstract: 本发明公开了一种中低应力工况下高锰钢耐磨强化方法,将熔覆材料离散分布在高锰钢表面,并通过熔敷方法将熔覆材料与高锰钢进行熔敷,使得两者冶金结合,从而在高锰钢表面形成包括有高硬耐磨合金体的熔敷层,表面覆盖有所述熔覆层的高锰钢表面硬度为50~65HRC。本发明方法既保留了高锰钢基体的强韧性,又提高了高锰钢在使用初期的耐磨性能,大大降低了高锰钢基体在使用初期产生的塑性变形,延长了高锰钢零件的使用寿命,且提高了高锰钢齿板等零件与破碎物料之间的咬合能力,可提高破碎效果。

    大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置

    公开(公告)号:CN104108054A

    公开(公告)日:2014-10-22

    申请号:CN201410276148.8

    申请日:2014-06-19

    CPC classification number: B24B1/00

    Abstract: 本发明涉及一种大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置,目的是解决常规金属表面精密加工和抛光方法的不足及加工和抛光效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。该装置包括射频电源、射频电源匹配器、高压直流脉冲电源、脉冲电源极性调节装置、高压直流脉冲电源阻抗、等离子炬、加工保护罩、控制电路和联动机构;本发明是在大气压下对金属的表面的精密加工和抛光,不需要真空室和特制的抛光液,可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的几倍,并且是无应力加工,无表面和亚表层损伤、无表面污染,抛光工件的表面粗糙度可达到Ra0.2μm。

    大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置

    公开(公告)号:CN104108054B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201410276148.8

    申请日:2014-06-19

    Abstract: 本发明涉及一种大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置,目的是解决常规金属表面精密加工和抛光方法的不足及加工和抛光效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。该装置包括射频电源、射频电源匹配器、高压直流脉冲电源、脉冲电源极性调节装置、高压直流脉冲电源阻抗、等离子体炬、加工保护罩、控制电路和联动机构;本发明是在大气压下对金属的表面的精密加工和抛光,不需要真空室和特制的抛光液,可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的几倍,并且是无应力加工,无表面和亚表层损伤、无表面污染,抛光工件的表面粗糙度可达到Ra 0.2μm。

    大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工方法

    公开(公告)号:CN104108053B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201410275439.5

    申请日:2014-06-19

    Abstract: 本发明公开了一种金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工方法,该方法首先采用射频振荡产生等离子体磁流体通道,对待抛光加工的金属表面凸起部位进行脉冲放电,产生的等离子弧经过磁流体通道后,得到强度和密度增强的等离子弧,该增强等离子弧对金属表面凸起部位进行轰击,使该部位形成阳极斑点后蒸发去除,并通过放电极性的调节实现去除凸起的光亮化,实现该位置的抛光加工。本发明方法解决了常规金属表面抛光方法的加工效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。能够在大气压下进行,可实现粗抛、细抛和精抛,不需要在金属抛光表面涂上任何研磨液和化学反应物,精密化抛光后形成的表面粗糙度小,可达到Ra0.2μm。

    一种金属表面抛光加工装置

    公开(公告)号:CN203901020U

    公开(公告)日:2014-10-29

    申请号:CN201420329428.6

    申请日:2014-06-19

    Abstract: 本实用新型涉及一种大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置,目的是解决常规金属表面精密加工和抛光方法的不足及加工和抛光效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。该装置包括射频电源、射频电源匹配器、高压直流脉冲电源、脉冲电源极性调节装置、高压直流脉冲电源阻抗、等离子炬、加工保护罩、控制电路和联动机构;本实用新型是在大气压下对金属的表面的精密加工和抛光,不需要真空室和特制的抛光液,可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的几倍,并且是无应力加工,无表面和亚表层损伤、无表面污染,抛光工件的表面粗糙度可达到Ra0.2μm。

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