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公开(公告)号：CN113497401B
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN202110713232.1
申请日：2021-06-25
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光电技术领域，具体涉及一种稀土掺杂光学微腔及其制备方法。本发明制备方法，包括以下步骤：(1)将除去涂覆层的单模光纤固定，并用激光烧蚀成瓶腔；(2)将高分子聚合物和稀土元素化合物溶解于有机溶剂中获得混合溶液，将瓶腔浸入混合溶液中，随后将其从混合溶液中提出，获得在表面覆盖高分子薄膜的瓶腔；(3)将表面覆盖高分子薄膜的瓶腔通过激光加热熔融成球腔。本发明先利用薄膜的吸附作用，在瓶腔表面形成一层均匀的掺杂稀土元素的薄膜，然后用激光将薄膜烧蚀、去除，将稀土元素均匀地掺杂至微腔中，最后实现了超高Q值的掺杂微腔。
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公开(公告)号：CN113497401A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110713232.1
申请日：2021-06-25
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光电技术领域，具体涉及一种稀土掺杂光学微腔及其制备方法。本发明制备方法，包括以下步骤：(1)将除去涂覆层的单模光纤固定，并用激光烧蚀成瓶腔；(2)将高分子聚合物和稀土元素化合物溶解于有机溶剂中获得混合溶液，将瓶腔浸入混合溶液中，随后将其从混合溶液中提出，获得在表面覆盖高分子薄膜的瓶腔；(3)将表面覆盖高分子薄膜的瓶腔通过激光加热熔融成球腔。本发明先利用薄膜的吸附作用，在瓶腔表面形成一层均匀的掺杂稀土元素的薄膜，然后用激光将薄膜烧蚀、去除，将稀土元素均匀地掺杂至微腔中，最后实现了超高Q值的掺杂微腔。
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公开(公告)号：CN115548851A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202211193467.3
申请日：2022-09-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01S3/094
Abstract: 本发明公开了一种增益物质与损耗调控物质共掺的光学微腔及其制备方法。通过将增益物质与损耗调控物质共掺进微谐振腔中，从而实现对微型激光器激射模式数量的有效抑制，所述微型激光器包含基质材料、增益物质和损耗调控物质；所述损耗调控物质的吸收峰波长长于增益物质的增益峰波长，所述损耗调控物质用于减少共掺杂微腔的激射模式数量。本发明采用增益物质与损耗调控物质共掺的方式，使其按比例均匀分布，从而使得模式抑制效果不存在空间上的局限性，可作用于所有低增益模式。本发明以铒、铥共掺的氧化硅微腔和以罗丹明640、罗丹明800共掺的SU8聚合物微腔为例验证了该模式抑制方法的有效性和普适性。
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