基相变材料的灰度调控显示结构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119310757A

    公开(公告)日:2025-01-14

    申请号:CN202411658208.2

    申请日:2024-11-20

    Abstract: 本发明提供一种基相变材料的灰度调控显示结构,包括:相变材料层,所述相变材料层为至少两层,所述相变材料层的晶化温度梯度至少在50摄氏度以上;介质层,每层相变材料层的上下两侧具有一层介质层,所述介质层用于改变所述相变材料层的晶化温度;热隔离层,位于所述相变材料层之间;电极层,位于所述介质层的一侧或两侧,用于对所述相变材料层进行电加热驱动。本发明能够对相变显示器件进行精准灰度调节,适用于多数相变材料,且结构简单,不易受环境影响,易于集成。

    一种显示结构
    2.
    发明公开
    一种显示结构 审中-实审

    公开(公告)号:CN119270530A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411658214.8

    申请日:2024-11-20

    Abstract: 本发明提供一种显示结构,该结构包括窄带吸收体结构;宽带吸收体结构,包括介质层和金属层构成的薄膜,所述金属层为多层,具有损耗,K值大于预设阈值,所述宽带吸收体结构位于所述窄带吸收体结构之上,与所述窄带吸收体结构耦合,产生鲜艳的颜色。本发明在宽带吸收体结构中采用多层具有高K值的金属层,可以抑制非目标波段的反射率,以产生丰富的颜色,提升颜色的纯度,该结构组件具有结构简单,不易受环境影响,角度不敏感等优点。

    一种显示器件
    3.
    发明公开
    一种显示器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN119270529A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411658212.9

    申请日:2024-11-20

    Abstract: 本发明提供一种显示器件,该显示器件包括:窄带吸收体结构,包括介质层和金属层;宽带吸收体结构,包括介质层、金属层和相变层,所述宽带吸收体结构中的金属层有多层,具有损耗,K值大于预设阈值,所述相变层位于多层金属层之间,所述宽带吸收体结构位于所述窄带吸收体结构之上,与所述窄带吸收体结构耦合,产生鲜艳的颜色。本发明具有结构简单,不易受环境的影响,在温度变化时,颜色反射率和饱和度变化不大,角度不敏感等优点。

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