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公开(公告)号：CN109972123A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201910364750.X
申请日：2019-04-30
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明公开了一种铍材六面体表面高硬度化学镀镍层镀覆及研磨方法。该方法适用于铍材六面体表面镀覆一层高硬度化学镀镍层，并对化学镀镍层进行精密研磨，其特征在于：铍材六面体表面前处理；表面预镀铜；表面化学镀镍；六面体热处理；表面精密研磨。经过本发明方法可在铍材表面获得一层高硬度化学镀镍层，镍层均匀、致密、结合强度良好，镍层经热处理后硬度达到Hv0.2维氏硬度900以上，经过精密研磨，铍材六面体表面无划痕，表面粗糙度达到Ra0.015～Ra0.02，具备良好的反光性能，弥补了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差的缺点。
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公开(公告)号：CN104858721B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201510218285.0
申请日：2015-04-30
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明涉及特种材料高精度研磨技术领域，特别涉及一种铍材动压马达半球零件通孔的研磨方法。本发明提出了选择合理的磨料配方、改进研具形状、材料等切实有效的方法，满足了半球通孔圆柱度精度0.5μm以内和表面粗糙度Ra0.02μm的设计图纸要求，解决了半球孔与轴的研配关键。实践证明：此种方法满足了设计精度要求，并且效率高，操作方便，目前已广泛应用到实际工作中。
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公开(公告)号：CN113829176A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111015122.4
申请日：2021-08-31
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法，研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板，其中，所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W3～W5；所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W1～W2；所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W0.5～W1。在铍材镜体研磨抛光时，分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面，铍材镜体平面度优于0.1μm，表面无划痕，表面粗糙度达到Ra 0.02μm，具备良好的反光性能，攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。
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公开(公告)号：CN109972123B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201910364750.X
申请日：2019-04-30
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明公开了一种铍材六面体表面高硬度化学镀镍层镀覆及研磨方法。该方法适用于铍材六面体表面镀覆一层高硬度化学镀镍层，并对化学镀镍层进行精密研磨，其特征在于：铍材六面体表面前处理；表面预镀铜；表面化学镀镍；六面体热处理；表面精密研磨。经过本发明方法可在铍材表面获得一层高硬度化学镀镍层，镍层均匀、致密、结合强度良好，镍层经热处理后硬度达到Hv0.2维氏硬度900以上，经过精密研磨，铍材六面体表面无划痕，表面粗糙度达到Ra0.015～Ra0.02，具备良好的反光性能，弥补了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差的缺点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104858721A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510218285.0
申请日：2015-04-30
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B1/00
Abstract: 本发明涉及特种材料高精度研磨技术领域，特别涉及一种铍材动压马达半球零件通孔的研磨方法。本发明提出了选择合理的磨料配方、改进研具形状、材料等切实有效的方法，满足了半球通孔圆柱度精度0.5μm以内和表面粗糙度Ra0.02μm的设计图纸要求，解决了半球孔与轴的研配关键。实践证明：此种方法满足了设计精度要求，并且效率高，操作方便，目前已广泛应用到实际工作中。
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公开(公告)号：CN104596410A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201510016621.3
申请日：2015-01-13
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明涉及航天惯性器件精密检测技术领域，特别涉及一种六面体高精度形位测量装置及方法。该装置包括电感测微仪、大理石定位平板、电感测头、第一测头固定块、第二测头固定块、标准平行刀口尺或标准棒、测头连接线、第一支架和第二支架。本发明的方法，检测时间短，检测效率高。一组平面的形位关系检测时间只需2分钟，而进口高精度三坐标测试仪检测时间约为20分钟以上，检测效率提高了10倍以上。
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公开(公告)号：CN113829176B
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202111015122.4
申请日：2021-08-31
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法，研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板，其中，所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W3～W5；所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W1～W2；所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W0.5～W1。在铍材镜体研磨抛光时，分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面，铍材镜体平面度优于0.1μm，表面无划痕，表面粗糙度达到Ra 0.02μm，具备良好的反光性能，攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。
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公开(公告)号：CN114888720A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210453531.0
申请日：2022-04-27
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提出一种高精度铍材半球通孔可调式研磨装置，包括：包括锥形芯轴、微调螺母、垫块、可替换式研磨套、顶盖和微调螺钉。在利用该装置研磨铍材半球内孔时，可以根据需要研磨棒具体的磨损情况进行微调，从而得到高的形位精度和表面粗糙度。并且，使用较长时间以后，只需更换研磨套，不需要更换整根研磨棒。本发明研磨装置满足了设计精度要求，并且效率高，操作方便，解决了整体式研磨棒的频繁更换、研磨效率低的问题。
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公开(公告)号：CN104596410B
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201510016621.3
申请日：2015-01-13
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明涉及航天惯性器件精密检测技术领域，特别涉及一种六面体高精度形位测量装置及方法。该装置包括电感测微仪、大理石定位平板、电感测头、第一测头固定块、第二测头固定块、标准平行刀口尺或标准棒、测头连接线、第一支架和第二支架。本发明的方法，检测时间短，检测效率高。一组平面的形位关系检测时间只需2分钟，而进口高精度三坐标测试仪检测时间约为20分钟以上，检测效率提高了10倍以上。
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