小基高比立体测绘光学系统

    公开(公告)号:CN101718550B

    公开(公告)日:2011-04-27

    申请号:CN200910242899.7

    申请日:2009-12-18

    Abstract: 小基高比立体测绘光学系统,采用完全共用主镜、次镜、三镜和平面折转镜的同轴三反射镜系统,偏视场使用,由两个独立的光学成像路径组合成。两组入射光线具有1°~6°夹角,分别依次到达主镜、次镜和三镜,最终再由平面镜折转到两个分立的接收像面上分别成像。本系统利用同时共用的主镜、次镜、三镜和平面折转镜以及双焦面实现前、后两个视场同时成像,从而通过单相机双通道成像的反射式光学系统实现高精度小基高比立体测绘。本系统具有光机结构集成度高,体积小,重量轻,便于在轨实时检测,内方位元素稳定度高等优点,特别适用于小基高比测绘制图中卫星相机单轨推扫,进行立体成像和测绘。

    小基高比立体测绘光学系统

    公开(公告)号:CN101718550A

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200910242899.7

    申请日:2009-12-18

    Abstract: 小基高比立体测绘光学系统,采用完全共用主镜、次镜、三镜和平面折转镜的同轴三反射镜系统,偏视场使用,由两个独立的光学成像路径组合成。两组入射光线具有1°~6°夹角,分别依次到达主镜、次镜和三镜,最终再由平面镜折转到两个分立的接收像面上分别成像。本系统利用同时共用的主镜、次镜、三镜和平面折转镜以及双焦面实现前、后两个视场同时成像,从而通过单相机双通道成像的反射式光学系统实现高精度小基高比立体测绘。本系统具有光机结构集成度高,体积小,重量轻,便于在轨实时检测,内方位元素稳定度高等优点,特别适用于小基高比测绘制图中卫星相机单轨推扫,进行立体成像和测绘。

Patent Agency Ranking