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公开(公告)号:CN1089667A
公开(公告)日:1994-07-20
申请号:CN93100181.1
申请日:1993-01-09
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 目前国内外用于制备氧化物薄膜的技术虽然各具优点,但大多存在成本高、工艺繁琐、不易涂覆形状复杂和尺寸较大的工件等一些缺点,因此现有涂覆技术的推广和应用均受到一定程度的限制。为此,本发明提出了一种新型的电化学沉积-热解烧制工艺,实现了各种氧化物薄膜的制备。本发明不仅克服了PVD、CVD等技术的许多缺点,而且具有工艺简单、经济可靠、易于自动化等一些优点;此外,本发明还适于冶金、机械、电子、光学等多种技术领域。
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公开(公告)号:CN1040345C
公开(公告)日:1998-10-21
申请号:CN93100181.1
申请日:1993-01-09
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明提出的电化学沉积-热解烧制氧化物薄膜的方法属于表面涂层涂覆技术,主要涉及氧化物薄膜的制备。为了解决沉积速度、工序繁杂和薄膜均匀问题,本发明采用电化学沉积和热解烧制两个过程,即将金属盐溶解于无水乙醇中,将待涂工件作为阴极,在一定的电压下进行电沉积,然后把得到的沉积膜在某一温度下热解,便可制得所需的氧化物薄膜。本发明简化了工艺,并通过工艺参数的控制,可以得到均匀一致的薄膜。
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公开(公告)号:CN1089666A
公开(公告)日:1994-07-20
申请号:CN93100182.X
申请日:1993-01-09
Applicant: 北京科技大学
IPC: C23C28/02
Abstract: 目前国内外用于制备MCrAlX(X——一般代表活性元素)涂层的技术虽然各具优点,但大多存在成本高、工艺繁琐、不易涂覆形状复杂和尺寸较大的工件等一些缺点,因此现有涂覆技术的推广和应用均受到一定程度的限制。本发明在结合电沉积技术和反应烧结技术的基础上,提出了一种新型的电泳沉积-反应烧结工艺,实现了MCrAlX型涂层的制备。本发明不仅克服了现有技术的许多缺点,而且具有工艺简单、经济可靠、易于自动化等一些优点;此外,本发明还适于冶金、机械、电子等多种领域。
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