公开(公告)号：CN103789530A

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201410023732.2

申请日：2014-01-20

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 刘平平 ,  詹倩 ,  万发荣 ,  赵明忠

IPC: C21D10/00 ,  C22C38/26

Abstract: 本发明提出了一种利用离子预辐照通过产生纳米析出物从而提高材料的抗辐照性能的新方法，该方法对低活化铁素体/马氏体钢或者低活化模型合金进行适当的预辐照，在材料中形成一种纳米相，这种纳米析出相在随后的辐照中能保持尺寸和结构的稳定性，为材料提供更多的点缺陷阱，从而提高低活化材料的抗辐照性能。

公开(公告)号：CN103789530B

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201410023732.2

申请日：2014-01-20

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 刘平平 ,  詹倩 ,  万发荣 ,  赵明忠

IPC: C21D10/00 ,  C22C38/26

Abstract: 本发明提出了一种利用离子预辐照通过产生纳米析出物从而提高材料的抗辐照性能的新方法，该方法对低活化铁素体/马氏体钢或者低活化模型合金进行适当的预辐照，在材料中形成一种纳米相，这种纳米析出相在随后的辐照中能保持尺寸和结构的稳定性，为材料提供更多的点缺陷阱，从而提高低活化材料的抗辐照性能。