一种离子印迹化浸渍树脂及其制备方法

    公开(公告)号:CN106582569A

    公开(公告)日:2017-04-26

    申请号:CN201611103719.3

    申请日:2016-12-05

    CPC classification number: B01J20/268

    Abstract: 本发明提供一种离子印迹化浸渍树脂制备方法,属于离子印迹材料制备技术领域。该方法是将离子印迹技术与浸渍树脂制备技术相结合,制备步骤包括:(1)将配体溶于有机溶剂中,加入模板离子,生成模板离子配合物;(2)加入大孔树脂基底,静置1‑500h使大孔树脂充分溶胀,用旋转蒸发仪除去有机溶剂,得到负载模板离子配合物的浸渍树脂;(3)用矿物酸(如HCl、HNO3、H2SO4)、EDTA或硫脲等淋洗剂将模板离子去除,干燥,得到离子印迹化浸渍树脂。该离子印迹材料制备方法简单、高效、经济,大孔树脂基底和配体的性能可分别调控、任意匹配。

    一种抑制浸渍树脂萃取剂流失的方法

    公开(公告)号:CN106832391B

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201710068479.6

    申请日:2017-02-08

    Abstract: 本发明提供一种抑制浸渍树脂萃取剂流失的方法,属于材料制备技术领域。该方法在浸渍树脂制备过程中加入低分子量直链聚合物或低交联度的聚合物,使萃取剂和聚合物在有机溶剂中充分溶解混匀,在旋转蒸发除去溶剂的过程中,萃取剂和聚合物交叉吸附到大孔树脂基底表面,聚合物链像“绳子”一样将萃取剂“绑在”大孔树脂基底上,增强了萃取剂的稳定性。该方法可有效抑制萃取剂的流失,制备过程属于物理过程,操作非常简单。

    一种抑制浸渍树脂萃取剂流失的方法

    公开(公告)号:CN106832391A

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201710068479.6

    申请日:2017-02-08

    Abstract: 本发明提供一种抑制浸渍树脂萃取剂流失的方法,属于材料制备技术领域。该方法在浸渍树脂制备过程中加入低分子量直链聚合物或低交联度的聚合物,使萃取剂和聚合物在有机溶剂中充分溶解混匀,在旋转蒸发除去溶剂的过程中,萃取剂和聚合物交叉吸附到大孔树脂基底表面,聚合物链像“绳子”一样将萃取剂“绑在”大孔树脂基底上,增强了萃取剂的稳定性。该方法可有效抑制萃取剂的流失,制备过程属于物理过程,操作非常简单。

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