公开(公告)号：CN1138023C

公开(公告)日：2004-02-11

申请号：CN01118541.4

申请日：2001-05-31

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 何业东 ,  杨晓战 ,  王德仁

IPC: C25D9/08

Abstract: 本发明涉及表面涂层涂覆技术，提出一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法。首先在试样表面预制一层绝缘薄膜，然后在金属盐的无水乙醇或水或含水的乙醇溶液中，试样作为阴极，通过计算机连续控制脉冲电压和时间，进行电沉积。本发明不仅可以获得单一金属氧化物、复合金属氧化物陶瓷涂层，而且可以获得不同成分的多层和成分梯度的金属氧化物陶瓷涂层，并且操作工艺简单，易于自动化。

公开(公告)号：CN1327091A

公开(公告)日：2001-12-19

申请号：CN01118541.4

申请日：2001-05-31

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 何业东 ,  杨晓战 ,  王德仁

IPC: C25D9/08

Abstract: 本发明涉及表面涂层涂覆技术,提出一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法。首先在试样表面预制一层绝缘薄膜,然后在金属盐的无水乙醇或水或含水的乙醇溶液中,试样作为阴极,通过计算机连续控制脉冲电压和时间,进行电沉积。本发明不仅可以获得单一金属氧化物、复合金属氧化物陶瓷涂层,而且可以获得不同成分的多层和成分梯度的金属氧化物陶瓷涂层,并且操作工艺简单,易于自动化。