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公开(公告)号：CN119665796A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411927657.2
申请日：2024-12-25
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B7/06
Abstract: 本发明提供一种量化提离波动对电涡流式金属膜厚测量误差的方法，通过计算提离高度波动对输出电压的影响，量化提离波动造成的厚度误差大小，建立厚度误差与被测膜厚和提离波动的对应关系；在此基础上，本发明面向微纳金属薄膜厚度检测过程，以提离基准和提离波动为主要影响参数，根据上述的对应关系，可高精度快速计算任意提离波动下的厚度误差，以此在实践应用中有效评估不同提离基准和提离波动所造成的厚度测量误差。
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