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公开(公告)号：CN1769525A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200510105456.5
申请日：2005-09-28
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种低成本、室温、快速制备碳化硅－镍核壳结构的化学镀方法和工艺。利用等离子体对碳化硅颗粒进行表面刻蚀，通过化学镀实现了碳化硅－镍核壳结构。该工艺以镍的可溶性盐、次亚磷酸可溶性盐为主要原料。其制备原理是，先将碳化硅颗粒等离子体表面刻蚀、亲水性处理、敏化处理、贵金属活化，然后放入配制好的镀液中施镀，间歇搅拌以防止粒子团聚，最终得到碳化硅－镍核壳结构。该工艺过程周期短，施镀温度低，便于工业化应用。此外，本工艺的优点是工艺简单，便于操作，成本较低。
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