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发明公开
一种降低石英表面粗糙度至亚纳米量级的方法无效

公开(公告)号：CN114057411A

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202111308585.X

申请日：2021-11-05

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 瓦西里·卡涅夫斯基 , 谢尔希·科列诺夫 , 瓦列里·格里戈鲁克 , 张昊 , 斯杰里马赫·亚历山大

IPC: C03C23/00 , C03B20/00

Abstract: 本发明公开了一种降低石英表面粗糙度至亚纳米量级的方法，该方法包括以下步骤：确定样品待加工表面的粗糙度参数；将样品放置于透明基板的顶面上；在样品的待加工表面涂覆含有氯分子的水溶液，并使水溶液的折射率小于样品的折射率；从透明基板外侧向样品的待加工表面发射相干单色线偏振辐射光，使相干单色线偏振辐射光从入光面垂直入射；保持相干单色线偏振辐射光对样品的待加工表面照射预定时间，实现对待加工表面的抛光处理。上述方法能够降低近场抛光所需的辐射功率。

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