基于离散微分几何理论的光路动力学应力计算方法

    公开(公告)号:CN118395824A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410510213.2

    申请日:2024-04-26

    Abstract: 本发明涉及光纤动力学领域,具体为一种基于离散微分几何理论的光路动力学应力计算方法,基于离散微分几何理论建立了光纤运动学框架,能够在简化光纤自由端并降低计算量的同时,保证计算结果具有良好的鲁棒性与精度;随后基于运动学框架由弹性势能推导出描述光纤装配过程中拉伸力、弯曲力、扭转力、扭矩、轴向应力和切向应力的动力学模型;基于Newmark隐式算法提出了预测下一时刻光纤位姿的动力学稳定求解方法;此外研究了碰撞检测以及接触力的碰撞响应策略,实现了光纤装配仿真的稳定计算与物理意义上的接触碰撞响应效果。

    一种微纳结构加工装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119118056A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202411242409.4

    申请日:2024-09-05

    Abstract: 本发明涉及技术领域,具体的说是一种微纳结构加工装置,包括用于放置待刻物的样品台;石英生物针尖,石英生物针尖垂直于样品台设置且位于样品台上方;运动机构,连接石英生物针尖,用于控制石英生物针尖位移;进液泵,通过进液管连接石英生物针尖,用于向石英生物针尖中注入溶液;高压电源,与石英生物针尖、样品台电连接,用于施加脉冲高电压,使由石英生物针尖滴落的溶液发生爆破;较光刻、紫外曝光、3D打印设备本发明成本更低,较电火花加工,加工精度较高,能够实现多种材料表面微纳结构的加工制造,解决了目前微纳加工设备昂贵且缺乏普适性的问题。

    为装配接触界面提供宽频微振动的装置及方法

    公开(公告)号:CN116481751A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310468250.7

    申请日:2023-04-27

    Abstract: 本发明涉及机械接触界面动态特性测量技术领域,具体为一种为装配接触界面提供宽频微振动的装置及方法,装置包括由左上部分外部框架和右下部分外部框架组成的矩形框架主体,左上部分外部框架和右下部分外部框架上相对设置有夹持部,左上部分外部框架水平设置有第一预紧螺栓,右下部分外部框架上竖向设置有压电陶瓷促动器,左上部分外部框架上与压电陶瓷促动器相对设置有第二预紧螺栓;此外还包括:拉压力传感器、微型测力传感器、压电放大器、函数信号发生器、变送器以及上位机。本发明提供的方案为探究精密配合接触界面的微塑性、微滑移机理提供依据,并进一步有助于从统计的角度,揭示精密配合界面接触状态的变化规律。

    一种超声波强度测量装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119555199A

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202411748334.7

    申请日:2024-12-02

    Abstract: 本发明涉及超声波测量技术领域,具体的说是一种超声波强度测量装置,包括第一测量层、第二测量层、金属过渡层、电极片、电信号测量模块和电信号分析模块;第一测量层与第二测量层贴合设置,第一测量层与第二测量层之间能够形成半导体异质结;金属过渡层设置有两个,分别设置在第一测量层和第二测量层相背一侧,金属过渡层与第一测量层或第二测量层形成欧姆接触;电极片的负极侧与靠近第一测量层的金属过渡层相贴设置;电极片设置有两个,分别设置在的金属过渡层相背一侧;两电极片与电信号测量模块电性相连;电信号测量模块与电信号分析模块通信连接;实现了微弱超声信号强度测量。

    基于装配误差的光学系统成像质量预测方法

    公开(公告)号:CN119670476A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202411723010.8

    申请日:2024-11-28

    Abstract: 本发明涉及机械工程领域,具体为一种基于装配误差的光学系统成像质量预测方法,首先构建精确的光学系统有限元模型,仿真螺栓拧紧过程,获得装配应力作用下的镜面变形,利用Zernike多项式对镜面面形进行拟合,以此为中间媒介,采用Zemax对镜面变形和装配位姿条件下的光学系统成像进行仿真,探究各种装配误差对光学系统成像质量的影响规律。接着,通过集成仿真方法构建装配数据集,建立MLP‑XGBoost组合神经网络代理模型,并进行模型训练,与单一MLP、XGBoost模型,以及传统的回归模型相比在预测精度方面更具优越性和可靠性。最后,采用随机梯度下降法对不同主次镜装配位姿条件下的预紧力进行了优化,能量集中度较优化前平均提高了11.34%,提高了双反光学系统的装调效率与精度。

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