Patent search ap:("北京理工大学") AND inv:"刘亚栋" Page 1

1.

发明公开
一种薄膜电解质及其制备方法无效

公开(公告)号：CN101388261A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200810105929.5

申请日：2008-05-07

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 吴锋 , 刘亚栋 , 陈人杰 , 陈实 , 李丽 , 王国庆

IPC: H01B1/00 , C04B35/00 , C23C14/35 , H01M6/18 , H01M10/36

Abstract: 本发明涉及一种薄膜电解质及其制备方法，是通过磁控溅射法制备具有NASICON结构的锂薄膜电解质，其具有较高的离子电导率、良好的化学稳定性、较宽的电化学稳定窗口、优良的机械性能及宽的应用温度范围。通过掺杂元素种类及比例的变化，得到不同性能的薄膜电解质，并通过溅射过程中氮气的引入，进一步改善了薄膜的性能。该薄膜电解质在薄膜锂电池、薄膜超级电容器、电致色变器件、传感器或其他新型电化学器件领域有广阔的应用前景。

Patent Agency Ranking