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公开(公告)号:CN119882281A
公开(公告)日:2025-04-25
申请号:CN202411941477.X
申请日:2024-12-26
Applicant: 北京无线电计量测试研究所
Abstract: 本发明公开了一种应用于剩余幅度调制抑制的电光调制器温度控制结构,涉及电光调制器温度控制领域,用以解决电光调制器温度不均匀的问题。本发明包括外层热屏蔽结构、内层热屏蔽结构、电光调制器和半导体制冷片,电光调制器设置于内层热屏蔽结构内,内层热屏蔽结构设置于外层热屏蔽结构内,半导体制冷片设置于外层热屏蔽结构与内层热屏蔽结构之间并用于控制内屏蔽结构的温度。本发明外层热屏蔽结构与内层热屏蔽结构相结合的双层热屏蔽结构,有效解决了现有技术中电光调制器温度不均匀的问题。
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公开(公告)号:CN119965648A
公开(公告)日:2025-05-09
申请号:CN202411911011.5
申请日:2024-12-24
Applicant: 北京无线电计量测试研究所
Abstract: 本申请实施例公开了一种大温区精密控温的光学参考腔系统。该光学参考腔系统采用主动和被动热控结合实现高精细光学参考腔系统大温区精密控温,可充分应对异质材料光学参考腔零膨胀温度点远低于室温的大范围温度负偏离情况。通过本申请,解决了由于光学参考腔的腔体和腔镜采用异质材料光胶结合导致的整体零膨胀温度点显著低于室温,从而难以实现精密控温的技术问题,达到了对光学参考腔在大温区内高精度的温度控制,使其在远低于室温的整体零膨胀温度点附近稳定工作的技术效果。
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