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公开(公告)号:CN114093528B
公开(公告)日:2023-09-26
申请号:CN202111386604.0
申请日:2021-11-22
Applicant: 北京应用物理与计算数学研究所
IPC: G21B1/23
Abstract: 本发明实施例中公开了一种激光聚变黑腔腔壁结构及黑腔。其中,预先将黑腔腔壁划分为光斑区和非光斑区;所述光斑区为腔壁上的激光打击区;所述腔壁结构包括:设置在所述光斑区的用以增加所述光斑区面积的多个凹孔结构和/或多个凸起结构;其中,所述多个凹孔结构具有相同或不同的几何参数;所述多个凸起结构具有相同或不同的几何参数。本发明实施例中的技术方案能够降低激光等离子体不稳定性,提高激光吸收效率。
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公开(公告)号:CN114093528A
公开(公告)日:2022-02-25
申请号:CN202111386604.0
申请日:2021-11-22
Applicant: 北京应用物理与计算数学研究所
IPC: G21B1/23
Abstract: 本发明实施例中公开了一种激光聚变黑腔腔壁结构及黑腔。其中,预先将黑腔腔壁划分为光斑区和非光斑区;所述光斑区为腔壁上的激光打击区;所述腔壁结构包括:设置在所述光斑区的用以增加所述光斑区面积的多个凹孔结构和/或多个凸起结构;其中,所述多个凹孔结构具有相同或不同的几何参数;所述多个凸起结构具有相同或不同的几何参数。本发明实施例中的技术方案能够降低激光等离子体不稳定性,提高激光吸收效率。
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