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公开(公告)号：CN103723699B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201310741931.2
申请日：2013-12-29
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种用于热喷涂的结构尺寸可控的羟基磷灰石粉末的制备方法。选用纳米羟基磷灰石为一次粉末，和加入分散剂聚丙烯酸铵的去离子水混合制备料浆，并加入一定量的聚乙二醇，搅拌均匀后，进行喷雾干燥，结合后续热处理，得到的团聚烧结型羟基磷灰石粉末粒径大小可控、结晶度高，特别的，所制备的空心粉末壁厚可以调节，能够满足实际生产中对喷涂粉末结构的不同要求，整个制备方法过程操作简单，成本较低。所制备的羟基磷灰石粉末可用于人工种植体表面涂层的制备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103253872B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201310153782.8
申请日：2013-04-27
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种玻璃表面陶瓷涂层的制备方法，属于表面处理技术领域。其特征在于，该制备方法包括如下步骤：a）喷涂粉料准备，b）玻璃前处理，c）喷涂陶瓷层；所述的步骤a）中，喷涂粉料为氧化钇部分稳定氧化锆或氧化铝；所述的步骤b）中，玻璃基体选用钢化玻璃，玻璃前处理包括喷砂处理、超声波洗涤、去离子水清洗以及烘干处理；所述的步骤c）中，采用大气等离子喷涂工艺，采用喷枪垂直于竖直装卡玻璃的送粉方式。该制备方法工序安排合理，制备成本适中，制得陶瓷涂层与玻璃基体结合强度较高，热匹配性较好，成功实现对玻璃材料和金属材料进行匹配过渡的目的。
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公开(公告)号：CN103253872A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310153782.8
申请日：2013-04-27
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种玻璃表面陶瓷涂层的制备方法，属于表面处理技术领域。其特征在于，该制备方法包括如下步骤：a）喷涂粉料准备，b）玻璃前处理，c）喷涂陶瓷层；所述的步骤a）中，喷涂粉料为氧化钇部分稳定氧化锆或氧化铝；所述的步骤b）中，玻璃基体选用钢化玻璃，玻璃前处理包括喷砂处理、超声波洗涤、去离子水清洗以及烘干处理；所述的步骤c）中，采用大气等离子喷涂工艺，采用喷枪垂直于竖直装卡玻璃的送粉方式。该制备方法工序安排合理，制备成本适中，制得陶瓷涂层与玻璃基体结合强度较高，热匹配性较好，成功实现对玻璃材料和金属材料进行匹配过渡的目的。
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公开(公告)号：CN103710659B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201310745865.6
申请日：2013-12-30
Applicant: 北京工业大学
IPC: C23C4/00
Abstract: 一种模拟热喷涂颗粒沉积成型的装置及方法属于热喷涂和表面工程领域。本发明采用气动悬浮的方式悬浮样品颗粒，结合激光无接触无污染地加热熔化样品，待样品完全熔化后，通过预热撞击模块控制基体从侧面撞击熔化颗粒，通过高速摄像装置拍摄熔化颗粒的撞击及其扁平过程。通过改变样品的原始尺寸，来控制熔滴的尺寸，通过预热撞击模块中的步进电机调节撞击速度，本发明特别适合于模拟不导电的非金属及难熔材料的熔化沉积，所模拟撞击的高温熔滴尺寸可调，撞击速度可控。
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公开(公告)号：CN103723699A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201310741931.2
申请日：2013-12-29
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种用于热喷涂的结构尺寸可控的羟基磷灰石粉末的制备方法。选用纳米羟基磷灰石为一次粉末，和加入分散剂聚丙烯酸铵的去离子水混合制备料浆，并加入一定量的聚乙二醇，搅拌均匀后，进行喷雾干燥，结合后续热处理，得到的团聚烧结型羟基磷灰石粉末粒径大小可控、结晶度高，特别的，所制备的空心粉末壁厚可以调节，能够满足实际生产中对喷涂粉末结构的不同要求，整个制备方法过程操作简单，成本较低。所制备的羟基磷灰石粉末可用于人工种植体表面涂层的制备。
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公开(公告)号：CN103710659A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201310745865.6
申请日：2013-12-30
Applicant: 北京工业大学
IPC: C23C4/00
Abstract: 一种模拟热喷涂颗粒沉积成型的装置及方法属于热喷涂和表面工程领域。本发明采用气动悬浮的方式悬浮样品颗粒，结合激光无接触无污染地加热熔化样品，待样品完全熔化后，通过预热撞击模块控制基体从侧面撞击熔化颗粒，通过高速摄像装置拍摄熔化颗粒的撞击及其扁平过程。通过改变样品的原始尺寸，来控制熔滴的尺寸，通过预热撞击模块中的步进电机调节撞击速度，本发明特别适合于模拟不导电的非金属及难熔材料的熔化沉积，所模拟撞击的高温熔滴尺寸可调，撞击速度可控。
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